CVD碳化硅涂层是怎么做上去的？厚度一般多少？

江苏三责新材料科技股份有限公司2025-11-21

CVD即化学气相沉积技术,通过高温化学反应使碳化硅气体在基材表面沉积形成致密涂层。高纯度CVD碳化硅涂层纯度可达99.9999%,应用于半导体长晶、外延、刻蚀、氧化扩散等领域的关键工艺。涂层厚度根据具体应用需求定制,通常在几十微米到几百微米范围内,需要在保证防护效果的同时控制对部件尺寸精度的影响。江苏三责新材料科技股份有限公司掌握多种焊接技术和高纯CVD碳化硅涂层技术,以碳化硅材料为基材制作的悬臂桨、炉管、晶舟等部件,基材纯度可达99.97%,表面碳化硅涂层后的纯度可达99.9999%,耐温可达1300℃。

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