二、工业水处理的未来
目前的RO-EDI技术**地降低了化学药剂的使用,简化了运行操作,降低了总的固定投资费用。尽管在工业水处理中还面临着进一步降低化学药剂使用的要求,但我们可以预期,随着过滤及RO膜技术的提高,RO-EDI系统的经济性将会得到进一步的提高。
将来会如何变化?我们会看到在所有的工业单元中降低对化学药剂的使用将是肯定的。可以预计,在3到5年的时间内,85%的工业水处理系统将会采用RO/EDI系统,剩余15%的部分则是应用在预处理的费用较高或者不能抵消非化学方法的RO-EDI系统所带来的固有益处的场合。
IonpureIP-LXM30Z EDI模块现在已完全确立了其市场地位,而且获得了工业界的***接受,此项技术的发展将取决于工业界对采用非化学方法制取纯水的不断需求。
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根据美国IONPURE IP-LXM45ZEDI模块系统的运行状态,EDI系统的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。
1.
清洗时,EDI系统的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI,从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。(正洗)
2.
***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%盐酸溶液,循环30分钟。
冲洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,将水箱中水冲洗至中性,然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。
第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(约用25% H2O2的浓10kg)循环50分钟。
冲洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。
第三步:碱洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循环50分钟。
冲洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。
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美国西门子(IONPURE)EDI模块在运行过程中,树脂分为交换区和新生区,在运行过程中,虽然树脂不断进行离子交换,但电流连续不断地使离子再生,从而形成了一种动态平衡;美国GEEDI模块内将始终保持一定空间的新生区;这样,美国GEEDI模块内的树脂也就不再需要化学药品的再生, 且其产水品质也得到了***的保证。
美国西门子(IONPURE)EDI模块由阴/阳离子交换膜,混床树脂,淡/浓水室和阴/阳电极构成。
美国西门子(IONPURE)EDI模块技术将电渗析和离子交换技术完美的结合在一起。
如果电压降低或是进水的总离子水平提高的话,那么系统中的树脂会更多的和离子发生交换,相应的工作区间就往出水侧移动,直至达到新的平衡,或是穿透,这一过程中,出水电导会发生一定的变化,出水的弱电离子增加是**明显的表现。如果电压上升或是进水离子减少,则系统的工作区间会向进水侧发生移动,表现为出水水质变好,弱电离子的含量减少。所以判断系统的平衡状态可以通过出水水质变化,弱电离子的漏出多少来实现,并可以通过工作区间的移动来解释。
浓水流量的变化是另一个调节系统平衡的要素,特别是对于系统中的电流有直接影响。浓水的流量对去除弱电离子Si也有一定关系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水体中的溶解度是120mg/L。所以进水的浓缩倍率达到一定程度后,Si在浓水中就会饱和,导致不能进行更深度的除硅,这也是确定浓水流量下限的条件之一。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保厂家供应。
美国ionpureEDI模块的进水指标:
◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水
◎TEA(总可交换阴离子,以CaCO3计):<25ppm。
◎电导率:<40μS/cm
◎PH:6.0~9.0。当总硬度低于0.1ppm时,EDI比较好工作的pH范围为8.0~9.0。
◎温度:5~35℃。
◎进水压力:<4bar(60psi)。
◎硬度:(以CaCO3计):<1.0ppm。
◎有机物(TOC):<0.5ppm。
◎氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。
◎变价金属:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。
◎H2S:<0.01ppm。
◎二氧化硅:<0.5ppm。
◎色度:<5APHA。
◎二氧化碳的总量:<10ppm。
◎ SDI15min:<1.0。 上海纯超环保出售质量美国IONPURE EDI模块。江苏全国发货美国IONPURE EDI模块
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(3)浊度、污染指 数(SDI)的影响。
EDI组件产水通道内填充有离子交换树脂,过高的浊度、污染指 数会使通道堵塞,造成系统压差上升,产水量下降。
(4)硬度的影响。
如果IONPUREEDI模块中进水的残存硬度太高,会导致浓缩水通道的膜表面结垢,浓水流量下降,产水电阻率下降;影响产水水质,严重时会堵塞组件浓水和极水流道,导致组件因内部发热而毁坏。
(5) TOC(总有机碳)的影响。
进水中如果有机物含量过高,会造成树脂和选择透过性膜的有机污染,导致系统运行电压上升,产水水质下降。同时也容易在浓缩水通道形成有机胶体,堵塞通道。
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