CO废气处理工艺流程

废气处理方法：吸附法：吸附法又可分成三种：(1)直接吸附法，利用活性炭对有机废气进行吸附净化处理，净化率可达95%以上，该方法设备简单、投资少，但需要经常更换活性炭，频繁的装卸、更换等程序增加运行费用。(2)吸附-回收法。利用纤维活性炭吸附有机废气，使其在趋近饱和状态下过热蒸汽反吹，实现脱附再生。(3)新型吸附-催化燃烧法。该方法综合吸附法与催化燃烧方法的优点，具有运行稳定、投资少、运行成本少、维修简单等优点。其利用新型吸附材料对有机废气进行吸附处理，使其在接近饱和状态下在热空气的作用下吸附、解析、脱附，接着再将废气引入催化燃烧床进行无焰燃烧处理，实现废气的彻底净化处理。该方法适用于浓度低、风力大的废气净化处理中，是当前国内应用较多的一种废气净化处理办法。废气处理的技术要求高，需要专业团队把控关键环节。CO废气处理工艺流程

等离子体分解法，等离子体分解法是在外加电场的作用下，介质放电产生的大量携能电子轰击污染物分子，引发了一系列复杂的物理、化学反应，从而使污染物得以降解去除的一种废气治理方法。优点：工艺简洁，低耗节能，设备材料抗氧化强，抗腐蚀，使用寿命长，能高效去除含有挥发性有机物、无机物、硫化氢、氨气等主要污染物的废气。缺点：等离子体技术在废弃物处理过程中，所要求的真空环境，带来了一定的技术难题，现在还是在处于研究阶段，目前很多研究只针对单一的污染物。CO废气处理工艺流程废气处理设备安装调试需要精细操作，确保设备正常运行。

光催化氧化工艺：（1）光催化氧化工艺简介，光化学和光催化氧化法是目前研究较多的一种高级氧化技术。光催化反应即在光的作用下进行的化学反应。分子吸收特定波长的电磁辐射后，是分子达到激发态，然后发生化学反应，产生新的物质，或成为热反应的引发剂。（2）光催化氧化工艺原理及流程，Ti02作为一种半导体材料其自身的光电特性决定了它可以用作光催化剂。半导体的能带结构通常是一个电子填充低能量价带（VB）和一个空的高能量的导带（CB），导带和价带之间的区域被称为禁带。当照射半导体的光能量等于或大于禁带宽度时，其价带电子被激发，跨过禁带进入导带，并在价带中产生相应空穴。电子从价带激发到导带，激发后分离的电子和空穴都有一部分进一步进行反应。

多介质催化氧化工艺，原理:反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围:适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点:占地小，投资低，运行成本低;管理方便，即开即用。缺点:耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。废气处理设备的运行维护和及时清洁保养对系统的稳定运行至关重要。

直接燃烧法，直接燃烧法的工艺比较简单，较适用在高浓度的废气治理中。它的原理是：利用燃料将收集到的废气混合物进行加热，将其加热到700~800℃，并停留0.3～0.5s，在高温下可燃的有害物质方可分解变为无害物质。4、催化燃烧法，本法是把废气加热到200～300℃经过催化床催化燃烧转化成无害无臭的二氧化碳和水，达到净化目的。该法适用于高温、中高浓度的有机废气治理，国内外已有普遍使用的经验，效果良好。该法是治理有机废气的有效方法之一，但对于低浓度、大风量的有机废气治理存在设备投资大、运行成本较高的缺点。废气处理技术涉及多种物理化学方法，如吸附、喷淋、脱硫等。CO废气处理工艺流程

废气处理需要综合考虑不同地区的环境特点和气候条件，制定适应性强的处理方案。CO废气处理工艺流程

废弃处理方法：蓄热式热氧化器，简称为RTO，在热氧化装置中计入蓄热式热交换器，在完成VOC预热后便可进行氧化反应。现阶段，蓄热式热氧化器的热回收率已经达到了95%，且其占用空间比较小，辅助燃料的消耗也比较少。由于当前的蓄热材料可使用陶瓷填料，其可处理腐蚀性或含有颗粒物的VOC气体。现阶段，RTO装置分为旋转式和阀门切换式两种，其中，阀门切换式是较常见的一种，由2个或多个陶瓷填充床组成，通过切换阀门来达到改变气流方向的目的。CO废气处理工艺流程