深圳美国GE DRUCK温湿度传感器

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VAISALA维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的CMP研磨液中H2O2浓度的仪器供应商Published:三月17,2021工业测量液体测量化学机械研磨/抛光(CMP)将化学反应和机械研磨结合在一起，是一项成本高昂且具有挑战性的重要纳米抛光工艺。这一工艺是集成电路制造中关键的使能步骤，对产量和工作效率都会产生影响。CMP简介抛光工艺使用含氧化剂的浆料完成，氧化剂通常为过氧化氢(H2O2)。在制造过程中，将晶圆和抛光垫紧密地压在一起，同时使二者各自以略微不同的速度逆时针旋转。将浆料铺在抛光垫中心，然后结合运用机械操作和化学操作，逐步除去晶圆表面的材料，使晶圆表面局部和整体都顺滑平坦。使用CMP浆料前，先在工厂对其进行混合或稀释。氧化物抛光浆料在购买时通常为浓缩状态，使用前在现场加水稀释，以减少运输和人工成本。一些多组分抛光浆料只能随用随混，因为这些浆料在混合后有效期很短。确保正确地混合至关重要，

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