江苏半导体用超纯水设备的常见故障

水的电导率不同超纯水的出水水质：电阻率>15MΩ.cm超纯水水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。2.纯水分为:工业纯水和饮用纯水工业纯水:在25摄氏度中，1。普通纯水:EC=1~10us/cm;2。高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;3。超纯水:EC=0.1~0.055；饮用纯水:EC=1~10us/cm(国家标准)。三、各种设备之间采用的工艺流程不同（一）超纯水设备的工艺流程为：1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)。2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(工艺)。超纯水设备可以提供低总氮的水供应。江苏半导体用超纯水设备的常见故障

光学材料生产用超纯水设备标准1.研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。2.研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。3.其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。4.根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。5.在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。6.玻璃研磨过后，需要用超纯水进行产品的清洗，以获得的产品。安徽蓄电池超纯水生产厂家半导体产业所要求的超纯水是100%的理论纯水，不含溶解在水中的离子类、有机物、活菌、微粒等。

再生活化原理：当设备运行一段时间，树脂失效，此时需再生，使其恢复交换能力。注意事项：1.操作人员应具备纯水设备基础知识，掌握操作规程。2.本设备严禁超压负荷工作。3.电机应定期检查。4.长期闲置不用，应定期搅动，以免树脂发霉。●制备工艺1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

超纯水设备特点稳压范围宽，输入电压变动±20%仍可正常使用。2、效率高，产品具有功率因素校正电路，功率因数可达0.98以上。3、输出电压电流无级连续可调，稳压稳流自动切换。4、负载由小至大值的稳流变化小于0.1%.5、安全性能高，输出端可任意短接不会造成机器损坏，且短接电流可由零至大值连续调整。6、采用先进的高频脉宽调制技术，具有稳定度强、精度高，体积小、重量轻、功耗低等特点。苏州道盛禾环保科技有限公司欢迎您的来电！超纯水设备可以提供低总铅的水供应。

◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm，电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-（公式为2H20=H3O+OH-）即，除了氢离子和氢氧根离子以外，没有任何电解质，这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是，电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上，高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如，在水中溶解1mg/L的Fe离子，其电阻率就会下降到约17MΩ·cm，所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展，水质要求是越来越严格。超纯水设备可以提供低氨氮的水源。苏州电子行业用超纯水设备

超纯水设备的应用很重要。江苏半导体用超纯水设备的常见故障

模块更换方便模块的一般寿命高于3-5年；备用模块储存方便。的铝板能良好的保护模块、管道和食品不受损坏。更换EDI超纯水设备模块简单、快捷。5产水纯度更高在进水低于40us/cm时，产水一般超过10~15MΩ.cm(25℃)，不受产水量波动的影响。6回收率更高如果水的硬度以CaCo3计小于1ppm时，回收率可达到90-95%；C室废水的浓度约为300-400us/cm，排出时接近中性。该部分水可进入前级RO系统再使用；如果水的硬度超过1ppm的CaCo3会在C室产生结垢，从而影响工作。在这种情况下，进入EDI超纯水设备之前的工艺要进行调整以降低硬度。硬度较高的水源建议采用软化器。江苏半导体用超纯水设备的常见故障