采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式，这是一种制取超纯水工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点●技术特点1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。苏州道盛禾环保科技有限公司超纯水设备可以满足各种水质要求。衢州超纯水设备注意事项
业内表示，超纯水设备出现水垢后不仅会影响到超纯水设备的正常运行，也会影响到出水的水质，给人们使用设备带来了不便。那么，在使用过程中，我们应该怎么防止超纯水设备结水垢呢?据了解，超纯水设备在长时间使用的过程中，通过反渗透膜两侧的压力差作为动力，进行水交换，在水不断的交换的同时会导致大量的盐聚集，盐中含有大量的沉淀物质，时间长了就会发生结垢现象，结构严重就会纯净水的质量。因此，在使用的过程中我们要有效的预防这种情况出现。衢州超纯水设备注意事项超纯水设备可以提供纯净的水源。
光学材料生产用超纯水设备水质手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高，带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。三、光学材料生产用超纯水设备技术光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水，镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上，采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO＋EDI＋SMB除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。
◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm，电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-（公式为2H20=H3O+OH-）即，除了氢离子和氢氧根离子以外，没有任何电解质，这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是，电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上，高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如，在水中溶解1mg/L的Fe离子，其电阻率就会下降到约17MΩ·cm，所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展，水质要求是越来越严格。超纯水设备可以提供低氯离子的水供应。
超纯水这个词是随着半导体的发展而出现的.半导体产业所要求的超纯水是100%的理论纯水，不含溶解在水中的离子类、有机物、活菌、微粒等。然而,不可能获得理论纯水。因为理论纯水不仅本身很难制造，而且理论纯水溶解其他物质的能力也很强。因为会变的。这是因为，即使能够制造出理论纯水，也不能忽视设备的附着物和材料的污染，而且如果将制造水采集到容器中，容器会产生污渍和溶出，因此无法维持纯度。因此，“超纯水”是指与现实中能够制造的理论纯水接近的水。超纯水设备可以提供低总铬的水供应。衢州超纯水设备注意事项
超纯水设备还是很重要的。衢州超纯水设备注意事项
光学材料生产用超纯水设备概述光学材料生产用超纯水设备包括四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗，所以有不同的工艺：有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗；也有行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。光学材料生产用超纯水设备水质：手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高，带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。衢州超纯水设备注意事项