光学材料生产用超纯水设备标准1.研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。2.研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青,少数企业的加工过程中会有漆片。3.其中研磨粉的型号各异,一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。4.根据镜片的材质及研磨精度不同,选择不同型号的研磨粉。5.在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的,以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。6.玻璃研磨过后,需要用超纯水进行产品的清洗,以获得的产品。超纯水设备可以提供高纯度的水源。南通锂电池超纯水设备
水的电导率不同超纯水的出水水质:电阻率>15MΩ.cm超纯水水质分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。2.纯水分为:工业纯水和饮用纯水工业纯水:在25摄氏度中,1。普通纯水:EC=1~10us/cm;2。高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;3。超纯水:EC=0.1~0.055;饮用纯水:EC=1~10us/cm(国家标准)。三、各种设备之间采用的工艺流程不同(一)超纯水设备的工艺流程为:1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(工艺)。台州锂电池超纯水厂家超纯水主要用于半导体行业。
超纯水设备保护措施根据部件不同略有差别,不同的配置有对应的保护措施,我们就来了解一下这些非常有必要收藏的保护措施。11、在超纯水设备使用15-30天就应该对砂滤器和炭滤器进行正反冲洗,将沙层和炭层表面的杂质冲出,以提高过滤效果。软化器的功用主要是以离子置换的原理降低水的硬度,因此随着使用时间的延长,阳树脂的软化能力也逐渐降低,需要用NaCl进行再生。22、精密过滤器是反渗透膜前的一个重要部件。通常我们会在精密过滤器的前后各装一个压力表,当压力差在0.7-1之间说明滤芯已经污堵了,就应该及时更换pp滤芯。苏州道盛禾环保科技有限公司
铁锈胶体物质悬浮物色异味生化有机物当原水中硬度较高时,可选择全自动软水器,这样有效的保护了反渗透膜,从而延长了反渗透膜的使用寿命。2、反渗透主机主要由高压泵、膜壳、进口反渗透膜组件,在线仪表、控制电气等组成。只要膜的数量及泵的型号选型得当,反渗透主机脱盐率及产水量都能达到额定指标,出水电导率可保证在≤10us.CM以下,(原水电导率小于500us/cm,工作温度:1~40℃)3、后处理部分是对反渗透制取的纯水作进一步的深化处理以制取超纯水,通常是离子交换混床设备或EDI设备,根据客户要求,出水阻率可达到18.2MΩ.CM,如果是应用在直饮水工艺上,则加上杀菌装置即可,通常为紫外线杀菌器或者臭氧发生器,从而使生产出来的水达到直饮标准。超纯水设备可以提供低总硫的水供应。
光学材料生产用超纯水设备概述光学材料生产用超纯水设备包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。光学材料生产用超纯水设备水质:手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。苏州哪里有卖超纯水设备的。台州锂电池超纯水厂家
超纯水设备是一种用于生产高纯度水的设备。南通锂电池超纯水设备
用途不同一超纯水设备的用途超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。2、电子产品的生产和清洗。3、电池产品的生产。4、半导体产品的生产和清洗。5、电路板的生产和清洗。6、其他高科技精细产品的生产。(二)纯水设备的用途:1、电厂化学水处理2、电子、半导体、精密机械行业超纯水3、食品、饮料、饮用水的制备4、小型纯水站,团体饮用纯水5、精细化工、精尖学科用水6、其他行业所需的高纯水制备7、制药工业工艺用水8、海水、苦咸水的淡化南通锂电池超纯水设备