南京P沟增强型场效应管接线图

取出的MOS器件不能在塑料板上滑动，应用金属盘来盛放待用器件。焊接用的电烙铁须要不错接地。在焊接前应把电路板的电源线与地线短接，再MOS器件焊接完成后在分离。MOS器件各引脚的焊接依次是漏极、源极、栅极。拆机时依次相反。电路板在装机之前，要用接地的线夹子去碰一下机械的各接线端子，再把电路板接上来。MOS场效应晶体管的栅极在容许条件下，接入保护二极管。在检修电路时应留意查明原来的保护二极管是不是损坏。JK9610A型功率场效应管测试仪：是一种新颖的全数字显示式功率场效应管参数测试设备，可用于标称电流约在2-85A，功率在300W以内的N沟导和P沟导功率场效应管主要参数的测试。场效应管测试仪它可以精确测量击穿电压VDSS、栅极打开电压VGS(th)和放大特点参数跨导Gfs，更是是跨导Gfs的测试电流可以达到50A，由于使用脉冲电流测试法，即使在大电流测试时也不会对被测器件导致任何损坏，更可以在大电流状况下对场效应管开展参数一致性的测试(配对)；仪器全然可用于同等电流等级的IGBT参数的测量；仪器还是一台性能甚为优于的电子元器件耐压测试装置，其测试耐压时的漏电流有1mA、250uA、25uA三挡可以选项。 场效应管由于它不存在杂乱运动的电子扩散引起的散粒噪声，所以噪声低。南京P沟增强型场效应管接线图

场效应管非常重要的一个作用是作开关作用，作开关时候多数应用于各类电子负载控制、开关电源开关管，MOS管非常明显的特性是开关特性好，对于NMOS来说，Vgs大于一定的值就会导通，适合用于源极接地时的情况，也就是所谓的低端驱动，只要栅极电压达到4V或10V就可以了。而对于PMOS来说，Vgs小于一定的值就会导通，适合用于源极接VCC时的情况，也就是驱动。但是，虽然PMOS可以很方便地用作驱动，但由于导通电阻大，价格贵，替换种类少等原因，在驱动中，通常还是使用NMOS。如下图是某开关电源其中一部分电路图，在这里的Q1场效应管用作PWM调制器或开关稳压控制器的功率开关管。 湖州常用场效应管命名场效应管是一种具有多种应用场景和优点的半导体器件，在现代电子电路中扮演着非常重要的角色。

场效应管电阻法测好坏:测电阻法是用万用表测量场效应管的源极与漏极、栅极与源极、栅极与漏极、栅极G1与栅极G2之间的电阻值同场效应管手册标明的电阻值是否相符去判别管的好坏。具体方法：首先将万用表置于R×10或R×100档，测量源极S与漏极D之间的电阻，通常在几十欧到几千欧范围（在手册中可知，各种不同型号的管，其电阻值是各不相同的），如果测得阻值大于正常值，可能是由于内部接触不良；如果测得阻值是无穷大，可能是内部断极。然后把万用表置于R×10k档，再测栅极G1与G2之间、栅极与源极、栅极与漏极之间的电阻值，当测得其各项电阻值均为无穷大，则说明管是正常的；若测得上述各阻值太小或为通路，则说明管是坏的。要注意，若两个栅极在管内断极，可用元件代换法进行检测。

场效应管电阻法测电极:根据场效应管的PN结正、反向电阻值不一样的现象，可以判别出结型场效应管的三个电极。具体方法：将万用表拨在R×1k档上，任选两个电极，分别测出其正、反向电阻值。当某两个电极的正、反向电阻值相等，且为几千欧姆时，则该两个电极分别是漏极D和源极S。因为对结型场效应管而言，漏极和源极可互换，剩下的电极肯定是栅极G。也可以将万用表的黑表笔（红表笔也行）任意接触一个电极，另一只表笔依次去接触其余的两个电极，测其电阻值。当出现两次测得的电阻值近似相等时，则黑表笔所接触的电极为栅极，其余两电极分别为漏极和源极。若两次测出的电阻值均很大，说明是PN结的反向，即都是反向电阻，可以判定是P沟道场效应管，且黑表笔接的是栅极；若两次测出的电阻值均很小，说明是正向PN结，即是正向电阻，判定为N沟道场效应管，黑表笔接的也是栅极。若不出现上述情况，可以调换黑、红表笔按上述方法进行测试，直到判别出栅极为止。 场效应晶体管的一个优点是它的栅极到主电流电阻高（≥100 MΩ）。

场效应管判定栅极:用万用表黑表笔碰触管子的一个电极，红表笔分别碰触另外两个电极。若两次测出的阻值都很大，说明均是反向电阻，该管属于N沟道场效应管，黑表笔接的也是栅极。制造工艺决定了场效应管的源极和漏极是对称的，可以互换使用，并不影响电路的正常工作，所以不必加以区分。源极与漏极间的电阻约为几千欧。注意不能用此法判定绝缘栅型场效应管的栅极。因为这种管子的输入电阻极高，栅源间的极间电容又很小，测量时只要有少量的电荷，就可在极间电容上形成很高的电压，容易将管子损坏。 场效应管是电压控制器件，它通过VGS(栅源电压)来控制ID（漏极电流）。绝缘栅型场效应管接线图

场效应管具有高输入电阻、低噪声、低功耗、宽动态范围、易于集成、无二次击穿现象、安全工作区域宽等优点。南京P沟增强型场效应管接线图

场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的ID， 用栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压进行控制”。更正确地说，ID流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很大，根据漏极-源极间所加VDS的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。 南京P沟增强型场效应管接线图

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