场效应管与双极性晶体管的比较场效应管是电压控制器件,栅极基本不取电流,而晶体管是电流控制器件,基极必须取一定的电流。因此,在信号源额定电流极小的情况,应选用场效应管。场效应管是多子导电,而晶体管的两种载流子均参与导电。由于少子的浓度对温度、辐射等外界条件很敏感,因此,对于环境变化较大的场合,采用场效应管比较合适。场效应管除了和晶体管一样可作为放大器件及可控开关外,还可作压控可变线性电阻使用。场效应管的源极和漏极在结构上是对称的,可以互换使用,耗尽型MOS管的栅——源电压可正可负。因此,使用场效应管比晶体管灵活。 场效应管的噪声系数很小,在低噪声放大电路的输入级及要求信噪比较高的电路中要选用场效应管。广东场效应管特点
三极管是流控型器件,MOS管是压控型器件,可控硅不单单是流控型器件,稍微复杂一点。分别介绍。三极管的控制方式三极管是常用的电子元器件,可以用作开关,也可以用作信号放大。三极管分为NPN型和PNP型,当三极管的PN结正向偏置之后,三极管导通。对于NPN三极管而言:在基极是高电平时,三极管导通;在基极是低电平时,三极管截至。对于PNP三极管而言:在基极是高电平时,三极管截至;在基极是低电平时,三极管导通。MOS管的控制方式MOS管是压控型的器件,与三极管相比较,其过电流能力会更大。MOS管分为NMOS管和PMOS管。其导通条件不一样。NMOS管,在Vgs>0时导通,Vgs<><0时导通,vgs>0截至;可控硅的控制方式可控硅的控制方式稍微复杂一点,可控硅共有四个工作象限,而且可控硅一旦导通,移除门极触发信号后,依然导通不会关断。可控硅的导通条件:门极存在满足条件的触发电流,T1和T2存在大于管压降的电压。可控硅的截至条件:门极触发信号移除,T1和T2之间的电流小于维持电流。 南京全自动场效应管作用漏极(D),载流子通过漏极离开沟道。通常,在漏极处进入通道的电流由ID表示。
用测电阻法判别无标志的场效应管:首先用测量电阻的方法找出两个有电阻值的管脚,也就是源极S和漏极D,余下两个脚为点栅极G1和栅极G2。把先用两表笔测的源极S与漏极D之间的电阻值记下来,对调表笔再测量一次,把其测得电阻值记下来,两次测得阻值较大的一次,黑表笔所接的电极为漏极D;红表笔所接的为源极S。用这种方法判别出来的S、D极,还可以用估测其管的放大能力的方法进行验证,即放大能力大的黑表笔所接的是D极;红表笔所接地是8极,两种方法检测结果均应一样。当确定了漏极D、源极S的位置后,按D、S的对应位置装人电路,一般G1、G2也会依次对准位置,这就确定了两个栅极G1、G2的位置,从而就确定了D、S、G1、G2管脚的顺序。
场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型:结型场效应管(junction FET—JFET)和金属 - 氧化物半导体场效应管(metal-oxide semiconductor FET,简称MOS-FET)。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(107~1015Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。 场效应晶体管可以由各种半导体制成。
场效应晶体管的优点:具有较高输入电阻高、输入电流低于零,几乎不要向信号源吸取电流,在在基极注入电流的大小,直接影响集电极电流的大小,利用输出电流控制输出电源的半导体。场效应管是电压控制元件,而晶体管是电流控制元件。在只允许从信号源取较少电流的情况下,应选用场效应管;而在信号电压较低,又允许从信号源取较多电流的条件下,应选用晶体管。场效应管是利用多数载流子导电,所以称之为单极型器件,而晶体管是即有多数载流子,也利用少数载流子导电。被称之为双极型器件。 场效应管因而被普遍用于大规模和超大规模集成电路中。苏州P沟增强型场效应管制造商
场效应晶体管也可由沟道和栅极之间的绝缘方法来区分。广东场效应管特点
场效应管在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有绝缘特性,通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场,实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次,VGS向负的方向变化,让VGS=VGS(off),此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且VDS的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂移方向的电场,只有靠近源极的很短部分,这更使电流不能流通。 广东场效应管特点
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