电泳涂装行业的电泳槽、工件挂具、超滤设备等易附着电泳漆残留、油污、杂质等污染物,这些污染物会影响电泳涂层的质量、附着力与设备运行效率。酷尔森干冰清洗针对电泳涂装行业的设备特性,提供高效、环保的清洗解决方案。在电泳槽清洗中,干冰颗粒能去除槽壁与槽底的电泳漆残留与杂质,保持电泳液的纯度,保障电泳涂层的均匀性与附着力,避免因槽内污染导致的涂层缺陷。对于工件挂具,干冰清洗能快速去除挂具表面的旧漆与油污,恢复挂具的导电性,提升电泳效果,延长挂具使用寿命。在超滤设备清洗中,干冰清洗可去除超滤膜表面的电泳漆残留与杂质。酷尔森的干冰清洗机发动机缸体、变速箱等铸造模具;汽车保险杠等塑料件涂装前处理。河南德国原装干冰清洗代理商
电力行业的锅炉、热交换器、变电站等关键设备长期运行后,受热面易积累大量灰尘、结焦与水垢,导致换热效率下降、能耗增加,甚至引发设备故障。酷尔森干冰清洗针对电力行业高温、高压的工况特点,展现出强劲的适配能力。在锅炉清灰作业中,干冰清洗无需停机冷却即可投入使用,干冰颗粒深入炉膛与烟道,撞击并去除受热面上的积灰与结焦,快速恢复炉膛传热效率,降低能源消耗。对于热交换器,干冰清洗能准确去除管壁上的水垢与杂质,避免管路堵塞,保障换热系统稳定运行。在变电站设备清洗中,干冰清洗无导电性,可安全去除电气设备表面的粉尘与油污,防止污染物导致的绝缘性能下降,为电力供应的连续性筑牢基础,助力电力行业实现高效运维。北京不锈钢干冰清洗24小时服务CryoSnow雪花清洗技术了一种高效、可持续的工业清洁方向,助力企业实现绿色生产目标。

酷尔森的干冰清洗技术在PCBA(印刷电路板组件)清洗中的应用是一项高效、环保且对敏感组件友好的先进技术,特别适用于传统清洗方法(如水洗、化学溶剂清洗、超声波清洗)存在局限性的场景。以下是干冰清洗在PCBA板应用中的关键方面、优势和注意事项:**工作原理物理冲击:高速喷射的干冰颗粒(通常直径在0.5mm-3mm)撞击污染物表面,产生机械剥离作用。热冲击(低温脆化):极低温(-78.5°C)的干冰颗粒使污染物(如松香、助焊剂残留、油脂、灰尘)迅速冷冻、变脆,降低其附着力和内聚力,更容易被冲击破碎。升华作用:干冰撞击后瞬间从固态升华为气态(二氧化碳气体),体积急剧膨胀(约800倍),产生微小的“”效应,进一步将破碎的污染物从基底表面剥离。不导电、无残留:干冰颗粒和气态二氧化碳均不导电,清洗后无任何二次残留物(水、化学溶剂等),*留下被剥离的污染物碎屑,可通过抽吸系统收集。
建材行业的水泥生产设备、瓷砖成型模具、石材加工设备等易附着物料残留、粉尘与油污,这些污染物会影响设备运行效率与产品质量,传统清洗方式易产生大量粉尘污染或损伤设备。酷尔森干冰清洗凭借环保、高效的特性,适配建材行业的清洗需求。在水泥生产设备如回转窑、预热器清洗中,干冰颗粒能去除表面的水泥结皮与积垢,恢复设备的传热效率,降低能耗,且干冰升华后无残留,不会污染水泥产品。对于瓷砖成型模具,干冰清洗能彻底去除模具内的瓷砖粉残留与杂质,保持模具的花纹清晰度,保障瓷砖的表面质量与成型精度。在石材加工设备清洗中,干冰清洗可去除设备表面的石材粉尘与切割残留,避免粉尘堆积导致的设备故障,同时改善车间粉尘污染问题。对于锂离子电池生产中的真空镀膜设备、刻蚀腔体等,干冰清洗可在线去除聚合物、金属沉积物等顽固污染物。

酷尔森的干冰清洗技术相对于传统方法的明显优势非破坏性:非研磨: 干冰颗粒在撞击后会升华消失,不会像喷砂(沙子、塑料粒)那样磨损焊盘、丝印、元器件引脚或基板本身。无化学腐蚀: 不使用任何化学溶剂,避免了溶剂对元器件的潜在腐蚀(如电解电容、连接器塑胶)、对标签/油墨的溶解以及对环境的危害。无水分侵入: 完全干燥的过程,杜绝了水洗带来的水分残留风险(可能导致电化学迁移、短路、腐蚀),特别适合清洗后不能或不方便烘干的板卡(如带有密封性不佳的元件、传感器、电池的PCBA)。低应力: 物理冲击力可控,远低于超声波清洗产生的空化力,**降低了对精密、脆弱元器件(如晶振、陶瓷电容、MEMS器件、微型连接器)或已存在微裂纹的焊点造成损伤的风险。无需拆卸:可以在组装好的状态下直接清洗,无需拆卸屏蔽罩、散热器或敏感元件(前提是它们能承受低温冲击),节省大量时间和人力成本。深入清洁:干冰颗粒能有效进入传统方法难以触及的区域,如高密度IC引脚之间、BGA/QFN封装底部与PCB之间的狭窄缝隙、连接器内部、散热片鳍片下方等。干冰清洗电力粉尘回收配套设备高效。天津全气动干冰清洗24小时服务
酷尔森干冰清洗提供样品测试服务。河南德国原装干冰清洗代理商
干冰清洗作用:采用超细干冰颗粒(1-3μm) 配合极低压力(0.05-0.2MPa) 喷射,利用干冰的低温(-78.5℃)使表面污染物脆化,同时通过压缩空气的动能剥离颗粒,且干冰升华后*产生 CO₂气体(惰性,不与光罩材料反应),无任何残留。无需接触光罩表面,避免机械划伤;无水分引入,适配光罩对 “***干燥” 的要求(水分可能导致表面氧化或残留水渍)。2. 晶圆表面预处理与中间清洁清洁对象:未加工晶圆(裸片)、沉积 / 刻蚀后的晶圆表面。污染问题:裸片表面可能残留切割后的硅粉、金属杂质(如 Fe、Cu),影响后续氧化层(SiO₂)生长的均匀性;沉积(CVD/PVD)后,晶圆表面可能附着未反应的靶材颗粒(如 Al、Cu);刻蚀(等离子刻蚀)后可能残留聚合物残渣(如氟碳聚合物),若未去除会导致后续薄膜层间结合不良。酷尔森icestorm干冰清洗作用:针对裸片:去除表面微米级硅粉和金属颗粒,且不损伤晶圆表面的原子级平整度(Ra≤0.1nm);针对刻蚀后残留:利用干冰低温使聚合物残渣脆化(聚合物在低温下硬度提升 3-5 倍),通过精细喷射压力(0.1-0.3MPa)剥离,避免传统等离子清洗可能导致的晶圆表面刻蚀过度。河南德国原装干冰清洗代理商