这款灰度光刻设备具备出色的精度和稳定性。通过先进的光刻技术,它能够在微米级别上进行精确的图案制作,确保产品的质量和精度达到比较高水平。同时,设备的稳定性也得到了极大的提升,减少了生产过程中的误差和损耗,提高了生产效率。这款设备具备高效的生产能力。它采用了快速曝光和快速开发的技术,**缩短了生产周期。相比传统的光刻设备,它的生产速度提高了30%,提升了我们的生产效率。同时,设备还具备多通道同时加工的能力,可以同时处理多个产品,进一步提高了生产效率和产能。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您揭秘什么是灰度光刻技术。湖南高分辨率灰度光刻系统

QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的重要部分是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。湖南高分辨率灰度光刻系统与传统的光刻技术相比,灰度光刻在制造复杂芯片时具有明显的优势。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。另外,还可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以非常普遍的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。欢迎咨询纳糯三维科技(上海)有限公司
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。另外,QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作,即一步打印多级衍射光学元件,并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。想要了解Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。

经过10年的市场销售,Nanoscribe已帮助了许多科学和工业领域的开拓者和创新的带领者,例如,为ICT生产DOE,微光学以及光子引线键合。他们的新IP-Visio在30个国家/地区拥有1,000多个用户,受到业界的强烈关注。2019年6月该公司推出了一款新型的机器QuantumX,使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beers定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“。纳糯三维扎根上海,为中国客户提供灰度光刻系统安装、维护与专业培训服务。湖南高分辨率灰度光刻系统
由于灰度光刻的高精度特性,它可以有效地解决传统光刻技术中存在的误差和缺陷问题。湖南高分辨率灰度光刻系统
Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度,可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统,可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度,属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料,是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件,从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期,包括仿生表面,微光学元件,机械超材料和3D细胞支架等。湖南高分辨率灰度光刻系统