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江苏微机械增材制造无掩膜光刻

来源: 发布时间:2024年09月28日

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨3D打印和增材制造原理。江苏微机械增材制造无掩膜光刻

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谈到增材制造技术(俗称3D打印技术)估计很多人并不陌生,但是说到增材制造技术的应用,可能大部分人还只停在以下两个阶段:1)原型制造,即通过树脂、塑料等非金属材料打印的概念原型与功能原型。其中概念原型用于展示产品设计的整体概念、立体形态和布局安排,功能原型则用于优化产品的设计,促进新产品的开发,如检查产品的结构设计,模拟装配、装配干涉检验等。2)间接制造,即通过3D打印技术完成工、模具制造,再采用3D打印工模具进行零件的制造。上海实验室增材制造PPGTNanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨增材制造技术的运用。

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Nanoscribe是非常独特的纳米和微米级3D打印技术。该公司成立于2007年,目前已经在激光光刻行业处于领头的地位。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT光刻系统主要通过在微尺度上运用激光来固化感光材料。3D打印材料主要包括液态的光敏材料和固态的旋涂光刻材料。凭着其独特的微尺度3D打印技术与人性化的软件,Nanoscribe毫无疑问是增材制造领域里的一股颠覆性力量。ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺,该迷你玩具的宽度只为100微米(与人类头发的宽度相当)。除了用于无线技术,Nanoscribe的3D打印技术还可用于制造高精度的光学微透镜,衍射光学元件,用于生物打印的纳米级支架等等。

近几年来,增材制造在全球范围内迅速走热,各国对于增材制造技术又开始重新重视起来,美国总统奥巴马将其视作制造业回归升级的重要方向,中国也在金属增材制造领域一直处于排名在前的水平。随着技术不断的进步,增材制造已经在航空航天、模具以及汽车等领域获得大规模应用,而走在应用前列的当属美国NASA。据美国国家航空航天局(NASA)官网近日报道,NASA工程人员正通过利用增材制造技术制造头一个全尺寸铜合金火箭发动机零件以节约成本,NASA空间技术任务部负责人表示,这是航空航天领域3D打印技术应用的新里程碑。增材制造(AM)技术又称为快速原型、快速成形、快速制造、3D打印技术等,是指基于离散-堆积原理,由零件三维数据驱动直接制造零件的科学技术体系。基于不同的分类原则和理解方式,增材制造技术的内涵仍在不断深化,外延也不断扩展。增材制造技术不需要传统的刀具和夹具以及复杂的加工工序,在一台设备上可快速精密地制造出任意复杂形状的零件,从而实现了零件“自由制造”,解决了许多复杂结构零件的成形,并很大程度减少了加工工序,缩短了加工周期,而且产品结构越复杂。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解增材制造的主要特性和测试方法。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解3D打印增材制造技术。江苏微机械增材制造无掩膜光刻

增材制造技术存在多方面的优势,如需了解请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。江苏微机械增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beers定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。江苏微机械增材制造无掩膜光刻