北京MEMS增材制造无掩膜光刻

谈到增材制造技术（俗称3D打印技术）估计很多人并不陌生，但是说到增材制造技术的应用，可能大部分人还只停在以下两个阶段：1)原型制造，即通过树脂、塑料等非金属材料打印的概念原型与功能原型。其中概念原型用于展示产品设计的整体概念、立体形态和布局安排，功能原型则用于优化产品的设计，促进新产品的开发，如检查产品的结构设计，模拟装配、装配干涉检验等。2)间接制造，即通过3D打印技术完成工、模具制造，再采用3D打印工模具进行零件的制造。走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司，学习增材制造工艺原理。北京MEMS增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe，基于双光子聚合（2PP）原理的3D微纳加工的先驱品牌，致力于为各行业提供高效、精密的增材制造解决方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系统是Nanoscribe的旗舰产品系列，其独特的2PP技术可以实现微米级别的精度和高度复杂性的结构，是目前市场上**的3D微纳加工设备之一。与其他3D打印技术相比，NanoscribePhotonicProfessional具有更高的精度和更大的自由度，可以制造出极其细致的结构和复杂的几何形状。这一特点使得Nanoscribe在微纳电子、生物医学、光电子等领域有着***的应用。用户可以使用NanoscribePhotonicProfessional快速打印出高质量的微米级别的器件和样品，**提高了研究和生产的效率和质量。湖北微机械增材制造三维微纳米加工系统3D打印技术可用于制造轻量化零部件。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级

   Nanoscribe成立于2007年，作为卡尔斯鲁厄理工学院研究小组的分拆，目前，Nanoscribe已经成为纳米和微米3D打印的出名企业，并且在许多项目上都有所作为。Nanoscribe的激光光刻系统用于3D打印世界上特别小的强度高的3D晶格结构，它使用高精度激光来固化光刻胶中具有小至千分之一毫米特征的结构。换句话说，激光使基于液体的材料的小液滴内部的特定层硬化。为了进一步适应日益增长的业务，Nanoscribe还宣布将把设施搬迁到KIT投资3000万欧元的蔡司创新中心。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解增材制造的特性。

 3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节，兼顾高精度、高性能、高柔性，可以快速制造结构十分复杂的零件，为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域，Nanoscribe表示，其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程，克服了长期的设计限制，并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。 换句话说，Photonic Professional GT系列与您的平均3D打印机不同，因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合，据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法，高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。增材制造可减少材料浪费和能源消耗。湖北微机械增材制造三维微纳米加工系统

增材制造技术正在改变产品的设计和生产方式。北京MEMS增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe基于双光子聚合技术的3D打印技术为构建具有自由形状和复杂特征的零件提供了极大的自由度，可直接根据CAD模型制造成品。若以传统方式来制造这些设计复杂的零件，则显得非常不切实际，甚至根本不可能完成。增材制造技术制造的零件往往更轻、更高效且能够更好地发挥工作性能。然而，这并不是说这种灵活性能够让我们随心所欲地设计任何想要的形状，至少在成本的约束下，我们也不可能做到这一点。Nanoscribe所具备的纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体，使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体，其中吸收的光的强度比较高北京MEMS增材制造无掩膜光刻