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浙江氧化铪英文名称

来源: 发布时间:2021年11月27日

氧化铪MSDS1.1产品标识符:Hafnium(IV)oxide化学品俗名或商品名1.2鉴别的其他方法无数据资料1.3有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途*供科研用途,不作为药物、家庭备用药或其它用途。模块2.危险性概述2.1GHS分类根据全球协调系统(GHS)的规定,不是危险物质或混合物。2.3其它危害物-无模块3.成分/组成信息3.1物质:HfO2分子式:210.49g/mol分子量成分浓度Hafniumdioxide-化学文摘编号(CASNo.)12055-23-1EC-编号235-013-2模块4.急救措施4.1必要的急救措施描述如果吸入如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。如果停止了呼吸,给于人工呼吸。在皮肤接触的情况下用肥皂和大量的水冲洗。在眼睛接触的情况下用水冲洗眼睛作为预防措施。如果误服切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。用水漱口。4.2**重要的症状和影响,急性的和滞后的据我们所知,此化学,物理和毒性性质尚未经完整的研究。4.3及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示无数据资料模块5.消防措施5.1灭火介质灭火方法及灭火剂用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。5.2源于此物质或混合物的特别的危害二氧化铪5.3救火人员的预防如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。5.4进一步的信息氧化铪的 泄露应急处理?浙江氧化铪英文名称

计算化学数据1、氢键供体数量:12、氢键受体数量:23、可旋转化学键数量:04、拓扑分子极性表面积(TPSA):34.15、重原子数量:36、表面电荷:07、复杂度:18.38、同位素原子数量:09、确定原子立构中心数量:010、不确定原子立构中心数量:011、确定化学键立构中心数量:012、不确定化学键立构中心数量:013、共价键单元数量:1。生态学数据通常对水是不危害的,若无**许可,勿将材料排入周围环境。性质与稳定性常温常压下稳定避免的物料酸。海南氧化铪价格咨询氧化铪的中文别称有哪些?

基本信息IUPAC名称:dioxohafnium元素含量比重:O(oxygen)15.2%、Hf(hafnium)84.8%二氧化铪分子结构密度:9.68g/cm3熔点:2758℃摩尔质量:210.49g/molCAS号:12055-23-1蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa线膨胀系数:5.6×10-6/K溶解度:不溶解于水纯度:99.99薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15(500nm)~2蒸发条件:用电子***,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s应用领域:UV增透膜,干涉膜

应用领域氧化铪(HfO2)为锆铪分离的产物,目前只有美、法等国家在生产核级锆时产生有氧化铪。中国早期就已经具备生产核级Zr,并生产少量氧化铪的能力。但是产品数量稀少,价格昂贵。作为铪的主要化学产品,通常用作光学镀膜材料,很少量开始试用于高效集成电路,氧化铪在**领域的应用尚待开发。氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大Chemicalbook,捕获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。生产方法当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪。也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧而得。氧化铪的危险性概述?

氧化铪(HfO2)为锆铪分离的产物,目前只有美、法等国家在生产核级锆时产生有氧化铪。中国早期就已经具备生产核级Zr,并生产少量氧化铪的能力。但是产品数量稀少,价格昂贵。作为铪的主要化学产品,通常用作光学镀膜材料,很少量开始试用于高效集成电路,氧化铪在**领域的应用尚待开发。氧化铪在光学镀膜领域的应用HfO2的熔点比较高、同时铪原子的吸收截面较大,捕Chemicalbook获中子的能力强,化学性质特别稳定,因此在原子能工业中具有非常大应用的价值。自上世纪以来,光学镀膜得到了很快的发展,HfO2在光学方面的特性已经越来越适应光学镀膜技术的要求,所以HfO2在镀膜领域的应用也越来越***,特别是它对光有比较宽的透明波段,在光透过氧化铪薄膜时,对光的吸收少,大部分通过折射透过薄膜,因此HfO2在光学镀膜领域的应用越来越被重视。氧化铪的 共价键单元数量?湖北氧化铪分子量

氧化铪的氢键供体数量?浙江氧化铪英文名称

基本信息IUPAC名称:dioxohafnium元素含量比重:O(oxygen)15.2%、Hf(hafnium)84.8%密度:9.68g/cm3熔点:2758℃摩尔质量:210.49g/molCAS号:12055-23-1蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa线膨胀系数:5.6×10-6/K溶解度:不溶解于水纯度:99.99薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15(500nm)~2蒸发条件:用电子***,氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃,基片温度~250℃,蒸发速率2nm/s应用领域:UV增透膜,干涉膜浙江氧化铪英文名称