纯水设备生产

   在电子芯片制造领域，对纯水水质要求近乎苛刻。芯片的光刻、蚀刻、清洗等工序中，哪怕是极微量的金属离子、有机物或颗粒杂质，都会导致芯片短路、性能下降甚至报废。东莞市合鑫水处理科技有限公司为某 12 英寸晶圆制造企业定制的 50T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI + 抛光混床” 工艺，将产水电阻率稳定控制在 18.2MΩ・cm，TOC（总有机碳）＜3ppb，颗粒度（≥0.1μm）＜50 个 /ml。设备配备的在线监测系统，可实时检测 12 项关键参数，一旦水质波动立即报警并启动应急处理程序。该企业引入设备后，芯片良品率从 91% 提升至 97.5%，每年减少因水质问题导致的经济损失超 1200 万元，有力保障了芯片的稳定生产。CEDI 设备产水满足光伏产业高要求。纯水设备生产

    科研实验室中的各种精密仪器，如高效液相色谱仪、原子吸收光谱仪、ICP-MS 等，对实验用水的纯度要求极高。普通的自来水或蒸馏水无法满足其需求，必须使用超纯水。合鑫为某高校化学实验室提供的 5L/H 小型纯水机，具备 “纯水” 和 “超纯水” 双路出水功能。采用 “预处理 + 反渗透 + EDI+UV 紫外杀菌 + 0.22μm 终端过滤” 工艺，超纯水产水电阻率可达 18.2MΩ・cm，TOC＜5ppb。设备还设有密码管理功能，保障实验数据安全。该实验室使用后，实验仪器的故障率明显降低，实验结果的准确性和重复性得到显著提高，有力支持了科研工作的开展。纯水设备生产超滤膜孔径巧妙，助合鑫超滤设备净化水质。

   半导体封装测试环节中，芯片清洗、引线键合、塑封等工序对水质要求极高，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能下降。合鑫为某半导体封装企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI+0.1μm 终端过滤” 工艺，产水电阻率≥16MΩ・cm，颗粒度（≥0.1μm）＜30 个 /ml，TOC＜8ppb。设备配备的高精度在线监测系统，可实时监控水质变化，并自动调整运行参数。该企业引入设备后，封装产品的良品率从 93% 提升至 98%，每年减少因水质问题导致的损失超 500 万元，增强了企业在半导体封装领域的竞争力。

   光伏组件生产中的硅片清洗、电池片制绒和丝网印刷等工序，对水质要求极高。水中的杂质会影响硅片表面清洁度，降低电池片的光电转换效率。合鑫为某大型光伏企业定制的 60T/H 纯水设备，通过 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换” 工艺，将产水电导率控制在＜3μS/cm，硬度＜0.1mmol/L，颗粒度＜0.5μm。设备还配备自动加药装置，可根据原水水质实时调节阻垢剂投加量。该企业使用该设备三年来，硅片清洗的良品率从 95% 提升至 99.2%，每年减少次品损失超 150 万元，助力企业在光伏市场中保持地位。超滤设备操作简便，净化效果良好。

   珠宝首饰加工过程中，清洗、抛光等工序需要使用纯水，以避免水中的杂质和矿物质在珠宝表面残留，影响珠宝的光泽和品质。合鑫为某珠宝加工企业设计的 8T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换” 工艺，去除水中的悬浮物、有机物、硬度离子和重金属离子，产水电导率＜8μS/cm，重金属离子＜0.05ppb。设备处理后的纯水用于珠宝首饰的清洗和浸泡，可使珠宝表面更加光洁亮丽，提高珠宝的附加值。该企业使用后，产品的客户满意度提高 30%，订单量稳步增长。连续电除盐，使合鑫 CEDI 纯水设备除盐效率更高。湖南全自动纯水设备

CEDI 设备提升产水质量和效率。纯水设备生产

    合鑫纯水设备在节能方面表现非凡。通过能量回收装置（ERD），将反渗透浓水压力转化为机械能，为进水端提供动力，节能效率达30%；采用变频水泵，根据实际用水量自动调节流量，降低能耗；优化膜组件排列方式，使回收率提升至75%，减少废水排放。某光伏企业使用合鑫15T/H设备后，年耗电量从120万度降至85万度，折合电费节约30万元，同时减少废水排放万吨，实现经济效益与环保效益双赢。食品加工中的配料用水、灌装用水需确保安全无杂质。合鑫为某饮料企业打造的30T/H纯水设备，采用“UF超滤+反渗透+紫外线消毒”工艺，有效去除水中胶体、细菌和有机物，产水电导率＜5μS/cm，微生物＜5CFU/ml。设备配备双路供水系统，一路用于饮料调配，一路用于瓶胚清洗，保障生产全流程水质稳定。该企业使用后，产品口感一致性提升，保质期内微生物超标率降为0，市场投诉率减少70%。 纯水设备生产