黑龙江高精度纳米粒度分析仪厂家

仪器的主要参数为：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度可选：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理，从激光器发出的激光束经显微物镜聚集，滤波和准直后，变成直径约10mm的平行光束，该光束照射到待测的颗粒上，就发生了散射，散射光经傅立叶透镜后，照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。驰光机电科技有限公司倾城服务，确保产品质量无后顾之忧。黑龙江高精度纳米粒度分析仪厂家

CPS分析仪基本原理：CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘，在离心力的作用下发生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器，颗粒按尺寸大小依次通过探测器，仪器记录颗粒通过探测器的时间，由于所有颗粒走过的路程都一样，因此，颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比，激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。黑龙江高精度纳米粒度分析仪厂家诚信是企业生存和发展的根本。

研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程：化学过程：研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应，生成比较容易去除的物质；物理过程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦，去除化学反应生成的物质。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技有限公司获得市场的一致认可。

主要特点如下：1.所需样品量少。每次只需要0.1ml，这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后，可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较，对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒，依旧可以很好地区分测量出来，即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较，由于采用更快的圆盘转速和高速检测器，因此较大缩短了分析所需时间。驰光机电科技有限公司热忱欢迎新老客户惠顾。黑龙江高精度纳米粒度分析仪厂家

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PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物，PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性、对可见光具有高透过率等特点，大量用于光伏、电容器、电致变色、触摸屏等行业，用来制作抗静电涂层、OLED(有机电激发光二极管)、有机薄膜太阳能电池材料、电极材料、电化学生物传感器等。PEDOT及其复合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撑二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根阴离子的化学聚合物)的粒度大小和粒度分布与其导电性能相关。CPS纳米粒度分析仪可以提供确切稳定的测量分析，有助于终产品导电性能的评价。CPS纳米粒度分析仪测定PEDOT/PSS得到的结果，粒径为0.022微米(仪器使用转速为24,000转/分钟)。黑龙江高精度纳米粒度分析仪厂家