提供数量、面积和体积等指标的平率分布图和表、累计分布图和表格粒度和粒型参数分布的结果;能够自动产生实验结果world报告。激光和视频分析产生的信息,很容易通过直观的数据报表软件得到。测量结果可以各种表格和图显示出来,这些表格和图可以由用户选择,以便正确显示需要的信息。通过数据挖掘技术,很容易实现数据比较和分析,允许对覆盖图和比较表进行编辑。轻点一下鼠标,就能生成Word格式的样品分析报告,该文件包括样品制备、粒径和粒形结果,还带有图像或视频信息。驰光通过专业的知识和可靠技术为客户提供服务。山西二氧化钛粒度分析仪价格
一般离心式分析仪的动态范围为40,但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量,现在可以使用示差沉降法快速测量,而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头:CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声,信噪比通常为50000左右,低噪声使得系统具有很高的灵敏度,可检测窄峰的重量通常小于0.01微克,这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。青海高灵敏度纳米粒度分析仪价格驰光机电周边生态环境状况好。
而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。
研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应,将不溶的物质转化为易溶物质,或者将硬度高的物质进行软化,然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除,溶入流动的液体中带走,即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程:化学过程:研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应,生成比较容易去除的物质;物理过程:研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦,去除化学反应生成的物质。驰光始终以适应和促进发展为宗旨。
C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用,产品综述:精对苯二甲酸,英文名简称为PTA,它是聚酯生产链的重要组成部分,是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯,合成纤维和增塑剂等,它们大量用于工业塑料,薄膜,涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体,PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性:通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂,对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸(TA)。如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺驰光机电科技有限公司是您可信赖的合作伙伴!福建二氧化钛粒度分析仪哪家好
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