氧化锌可以应用于病毒载体制剂,并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果,仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象,仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况。驰光机电凭借多年的经验,依托雄厚的科研实力。海南激光粒度分析仪价格
光电探测器阵列由一系列同心环带组成,每个环带是一个单独的探测器,能将投射到上面的散射光线形地转换成电压,然后送给数据采集卡,该卡将电信号放大,再进行AID转化后送入计算机。激光粒度仪依据全量程米氏散射理论,充分考虑到被测颗粒和分散介质的折射率等光学性质,根据激光照射在颗粒上产生的散射光能量反演出颗粒群的粒度大小和粒度分布规律。激光粒度仪注意事项:本仪器适用于<1mm粒度测定,>1mm的应过筛测定;必须先开计算机电源,工作正常后,再开仪器电源,顺序不能反了,否则信号送不到计算机。海南激光粒度分析仪价格山东驰光机电科技有限公司重信誉、守合同,严把产品质量关,热诚欢迎广大用户前来咨询考察,洽谈业务!
CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!
升降台式样品池送进定位及环境光遮蔽系统,使光子相关谱探测系统不只体积小,而且具有很强的抗干扰能力。高精度的测试温度控制系统:单独的循环温控槽可在2-95℃范围内任意设定,其控制精度达0.1℃。微量样品池/标准样品池:可以使用3.5ML的标准样品池外,还有适应于稀有贵重样品的0.3ML微样池。环境温度:在5-35℃的环境中,本仪器都能正常使用。纳米粒度仪样品池恒温箱及恒温DI水供应系统:有利于提高测试温度控制精度同时减少等待样品池热平衡的时间,提高仪器的实际测试精度和工作效率。驰光机电科技通过专业的知识和可靠技术为客户提供服务。
为了提高粒径的测量精度,需要较高的圆盘转速,目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM,而国内在1500RPM,无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转,测试范围在5nm-75um,每次加样只需要0.1ml,降低样液的测试成本,可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标,包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。驰光机电团队从用户需求出发。海南激光粒度分析仪价格
驰光机电从国内外引进了一大批先进的设备,实现了工程设备的现代化。海南激光粒度分析仪价格
磨料的粒度测量:以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用,CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米,典型的过大聚集体为1-10微米,并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸,同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%,粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。海南激光粒度分析仪价格