而化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成电路芯片的一个关键制程,国内抛光所用关键材料CMP抛光垫,几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%,170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%,6-80nm)、氧化铈(6Vol%,200-240nm)或氧化铝颗粒,它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%),容易聚集。随着贮存时间延长,它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电科技不懈追求产品质量,精益求精不断升级。湖南粒度分析仪报价
应用实例:测量高纯氧化铝粉。一般来说,含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝,其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃,短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料;99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标,CPS纳米粒度分析仪能给您带来确切稳定的测量结果。使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图。湖南CPS高精度纳米粒度分析仪报价山东驰光机电科技有限公司深受行业客户的好评,值得信赖。
各种金属粉体:如铝粉、锌粉、钼粉、钨粉、镁粉、铜粉以及稀土金属粉、合金粉等。其它粉体:如催化剂、水泥、磨料、医药、农药、食品、涂料、染料、荧光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各种乳浊液等。在现代装备制造业中的各种润滑油、液压油、燃料油、超导体、绝缘材料、无线电技术等行业越来越离不开激光粒度检测技术,在这些领域,激光粒度仪发挥着越来越大的作用。粒度测量仪可用于建筑材料生产种,建筑业大量使用的水泥,产品的粒度分布是影响质量的非常重要的因素之一。
CPS纳米粒度分析仪测量参数:粒径、粒形和浓度;粒径范围:0.1-3600μm;浓度范围:高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒);供样方式:液体、干粉、表面;系统规格/重量电源:665L×280W×183H(mm);14Kg;100-130V,205-240V,50/60Hz,100VA;2mW He-Ne,632.8nm,硅PIN二极管检测器;全量程的0.3%,小可达0.2μm;同步频闪光源,亮度和持续时间可调;频闪率;可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素;PAL768×572像素。Windows XP操作系统,检测报告自动生成,符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准;符合多项ISO方法标准;测量池模块:液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电过硬的产品质量、完善的售后服务、认真严格的企业管理,赢得客户的信誉。
颗粒形状信息很重要,混合样品或未知组分样品,需要高分辨率的数量分布来准确分析样品中的少数特殊颗粒,正在考虑将实验室检测扩大到工业规模的检测,我们还提供原位在线粒形分析系统,可用于高温,高压以及腐蚀性环境。动态测量系统,显微镜同等级的精度真实原始数据的存储,强大的预处理工具,高质量的图像分析结果,可精确测量非球形颗粒,供40个ISO标准粒形参数,包含粒径、形状因子、球形度、圆度、对比和表格,可保存分析测量图像和录保,图像分析结果可追溯。驰光拥有业内专业人士和高技术人才。湖南CPS高精度纳米粒度分析仪报价
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CPS分析仪基本原理:CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘,在离心力的作用下发生沉降,沉降的速度遵循Stokes公式,在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器,颗粒按尺寸大小依次通过探测器,仪器记录颗粒通过探测器的时间,由于所有颗粒走过的路程都一样,因此,颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比,激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。湖南粒度分析仪报价