测量低密度颗粒:示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒,CPS开发了一项新的技术技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体),现在可以方便地使用CPS进行分析,而且精度很高。速度调节:CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速,而不会对沉降液体产生扰动,转速可以在20倍范围内升高或者降低,这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。驰光机电科技拥有先进的产品生产设备,雄厚的技术力量。四川高灵敏度纳米粒度分析仪哪家好
C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用,产品综述:精对苯二甲酸,英文名简称为PTA,它是聚酯生产链的重要组成部分,是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯,合成纤维和增塑剂等,它们大量用于工业塑料,薄膜,涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体,PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性:通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂,对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸(TA)。如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺四川高灵敏度纳米粒度分析仪哪家好驰光机电科技有限公司品牌价值不断提升。
标定CPS使用的标定颗粒都与美国标准和技术研究院(NIST)的其它标准进行过交叉对比,确保均值、峰宽或者半峰宽等方面的误差在±2%之内,而且颗粒的团聚性也符合要求。可选标定颗粒:直径小于10微米的标定颗粒通常以悬液的形式保存在水中,当然也可以保存在非水基悬液中。大于10微米可以有三种形态,水基悬液,非水基悬液或者干粉状态。每一套标定颗粒都有其粒度分析结果和分析证书。应用实例:PEDOT及其复合材料的粒径测量PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物,PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性。
而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。驰光机电产品适用范围广,产品规格齐全,欢迎咨询。
对于粒径分布范围很宽的样品,通过可选的速度调节功能圆盘,只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示:与扫描电镜所显示的结果基本一致,裂解后的炭黑较小粒径为3um,较大可至50多微米,并且出现很多峰值,证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环,CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。驰光机电科技不断提高产品的质量。四川高灵敏度纳米粒度分析仪哪家好
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颗粒的大小称作粒度,颗粒的直径称做粒径。通常用粒径来表示粒度,粒度测量仪可以利用颗粒对激光的散射特性作等效对比,可快速有效测量粒径,采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在短焦距获得大量程,有效提高仪器的分辨能力对小颗粒有的测试能力,是工厂、研究所、高等院校等机构进行相关粒度测试的理想选择。粒度测量仪的应用现状与前景展望:基于光散射原理的激光粒度仪已经大量应用于各领域的粒度检测。如:各种非金属粉体,如重钙、轻钙、滑石粉、高岭土、石墨、硅灰石、水镁石、重晶石、云母粉、膨润土、硅藻土、黏土等。四川高灵敏度纳米粒度分析仪哪家好