而化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成电路芯片的一个关键制程,国内抛光所用关键材料CMP抛光垫,几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%,170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%,6-80nm)、氧化铈(6Vol%,200-240nm)或氧化铝颗粒,它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%),容易聚集。随着贮存时间延长,它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电与广大客户携手共创碧水蓝天。福建激光粒度粒形分析仪厂家
研磨液中的化学成分与硅片表面材料产生化学反应,将不溶的物质转化为易溶物质,或者将硬度高的物质进行软化,然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从硅片表面去除,溶入流动的液体中带走,即在化学去膜和机械去膜的交替过程中实现平坦化的目的。其反应分为两个过程:化学过程:研磨液中的化学品和硅片表面发生化学反应,生成比较容易去除的物质;物理过程:研磨液中的磨粒和硅片表面材料发生机械物理摩擦,去除化学反应生成的物质。福建激光粒度粒形分析仪厂家驰光机电科技不断完善自我,满足客户需求。
水泥的粒度分布如何将较大的影响混凝土的强度。粒度分布的测量对产品的质量控制,降低生产成本,提高产品质量,减少能耗方面均有较大的作用。对于水泥生产的实时控制,就需要粒度仪这样的监控仪器,保证数据的输出连续性,确保质量的可靠。纳米粒度仪采用动态光散射原理和光子相关光谱技术,根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快,大颗粒布朗运动速度慢,激光照射这些颗粒,不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。
氧化锌可以应用于病毒载体制剂,并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果,仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象,仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况。驰光机电科技有限公司以创百年企业、树百年品牌为使命,倾力为客户创造更大利益!
对于粒径分布范围很宽的样品,通过可选的速度调节功能圆盘,只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示:与扫描电镜所显示的结果基本一致,裂解后的炭黑较小粒径为3um,较大可至50多微米,并且出现很多峰值,证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分布状态。随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。作为芯片制造不可或缺的一环,CMP工艺在设备和材料领域历来是受欢迎的。驰光机电科技有限公司不断完善自我,满足客户需求。福建激光粒度粒形分析仪厂家
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高灵敏度:即使只有1微克样品,CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换:可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度,即百万分之一的误差。快速检测头响应:CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度,而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围,比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。福建激光粒度粒形分析仪厂家
山东驰光机电科技有限公司是我国分析仪,在线监测,在线分析,流量计专业化较早的有限责任公司之一,公司位于南定镇亿达路38号工业园区1-301室,成立于2019-08-22,迄今已经成长为仪器仪表行业内同类型企业的佼佼者。公司承担并建设完成仪器仪表多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。将凭借高精尖的系列产品与解决方案,加速推进全国仪器仪表产品竞争力的发展。