河南二氧化钛粒度分析仪哪家好

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技有限公司产品销往国内。河南二氧化钛粒度分析仪哪家好

磨料的粒度测量：以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用，CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米，典型的过大聚集体为1-10微米，并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸，同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%，粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。河南二氧化钛粒度分析仪哪家好驰光机电科技团结、创新、合作、共赢。

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电提供周到的解决方案，满足客户不同的服务需要。

为了提高粒径的测量精度，需要较高的圆盘转速，目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM，而国内在1500RPM，无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转，测试范围在5nm-75um，每次加样只需要0.1ml，降低样液的测试成本，可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标，包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。驰光机电科技真诚希望与您携手、共创辉煌。河南二氧化钛粒度分析仪哪家好

驰光机电和客户携手诚信合作，共创辉煌！河南二氧化钛粒度分析仪哪家好

据统计，2021年我国PTA将迎来投产前端期，基本都是行业前端企业配套上下游的规划项目，其中恒力石化2021年在广东惠州设计产能达到500万吨，预计2021年我国PTA计划投产PTA产能1650万吨（保底1160万吨），预计2022年我国PTA计划投产PTA产能570万吨。CPS高精度纳米粒度分析仪CPS高精度纳米粒度分析仪有三种型号：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS纳米粒度分析仪是目前世界上分析速度快、分辨率较高以及灵敏度较好的离心沉降式纳米粒度分析仪，它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之间的颗粒。河南二氧化钛粒度分析仪哪家好

山东驰光机电科技有限公司目前已成为一家集产品研发、生产、销售相结合的生产型企业。公司成立于2019-08-22，自成立以来一直秉承自我研发与技术引进相结合的科技发展战略。公司具有分析仪，在线监测，在线分析，流量计等多种产品，根据客户不同的需求，提供不同类型的产品。公司拥有一批热情敬业、经验丰富的服务团队，为客户提供服务。驰光以符合行业标准的产品质量为目标，并始终如一地坚守这一原则，正是这种高标准的自我要求，产品获得市场及消费者的高度认可。山东驰光机电科技有限公司本着先做人，后做事，诚信为本的态度，立志于为客户提供分析仪，在线监测，在线分析，流量计行业解决方案，节省客户成本。欢迎新老客户来电咨询。