您好,欢迎访问

商机详情 -

甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制

来源: 发布时间:2024年03月11日

MEMS制作工艺-太赫兹传感器:

太赫兹(THz)波凭借其可以穿透大多数不透光材料的特点,在对材料中隐藏物体和缺陷的无损探测方面具有明显的优势。然而,由于受到成像速度和分辨率的束缚,现有的太赫兹探测系统面临着成像通量和精度的限制。此外,使用大阵列像素计数成像的基于机器视觉的系统由于其数据存储、传输和处理要求而遭遇瓶颈。

这项研究提出了一种衍射传感器,该传感器可利用单像素太赫兹探测器快速探测3D样品中的隐藏物体和缺陷,从而避免了样品扫描或图像形成及处理步骤。利用深度学习优化的衍射层,该衍射传感器可以通过输出光谱全光探测样品的3D结构信息,直接指示是否存在隐藏结构或缺陷。研究人员使用单像素太赫兹时域光谱(THz-TDS)装置和3D打印衍射层,对所提出的架构进行了实验验证,并成功探测了硅样品中的未知隐藏缺陷。该技术在安全筛查、生物医学传感和工业质量控制等方面具有重要的应用价值。 MEMS微纳米加工的未来发展是什么?甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制

甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制,MEMS微纳米加工

MEMS制作工艺柔性电子:

柔性电子(Flexible Electronics)是一种技术的通称,是将有机/无机材料电子器件制作在柔性/可延性基板上的新兴电子技术。相对于传统电子,柔性电子具有更大的灵活性,能够在一定程度上适应不同的工作环境,满足设备的形变要求。但是相应的技术要求同样制约了柔性电子的发展。首先,柔性电子在不损坏本身电子性能的基础上的伸展性和弯曲性,对电路的制作材料提出了新的挑战和要求;其次,柔性电子的制备条件以及组成电路的各种电子器件的性能相对于传统的电子器件来说仍然不足,也是其发展的一大难题。 青海MEMS微纳米加工服务热线MEMS的研究内容与方向是什么?

甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制,MEMS微纳米加工

MEMS的采样精度,速度,适用性都可以达到较高水平,同时由于其体积优势可直接植入人体,是医疗辅助设备中关键的组成部分。传统大型医疗器械优势明显,精度高,但价格昂贵,普及难度较大,且一般一台设备只完成单一功能。相比之下,某些医疗目标可以通过MEMS技术,利用其体积小的优势,深入接触测量目标,在达到一定的精度下,降低成本,完成多重功能的整合。以近期所了解的一些MEMS项目为例,通过MEMS生物传感器对体内某些指标进行测量,同时MEMS执行器(actuator)可直接作用于病变组织进行更直接的医疗,同时系统可以通过MEMS能量收集器进行无线供电,多组单元可以通过MEMS通信器进行信息传输。个人认为,MEMS医疗前景广阔,不过离成熟运用还有不短的距离,尤其考虑到技术难度,可靠性,人体安全等。

MEMS制作工艺压电器件的常用材料:

氧化锌是一种众所周知的宽带隙半导体材料(室温下3.4 eV,晶体),它有很多应用,如透明导体,压敏电阻,表面声波,气体传感器,压电传感器和UV检测器。并因为可能应用于薄膜晶体管方面正受到相当的关注。同时氧化锌还具有相当良好的生物相容性,可降解性。E.Fortunato教授介绍了基于氧化锌的新型薄膜晶体管所带来的主要优势,这些薄膜晶体管在下一代柔性电子器件中非常有前途。除此之外,还有众多的二维材料被应用于柔性电子领域,包括石墨烯、半导体氧化物,纳米金等。2014年发表在chemical review和nature nanotechnology上的两篇经典综述详尽阐述了二维材料在柔性电子的应用。 MEMS传感器行业为国内企业追赶提供了契机。

甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制,MEMS微纳米加工

MEMS传感器的主要应用领域有哪些?

运动追踪在运动员的日常训练中,MEMS传感器可以用来进行3D人体运动测量,通过基于声学TOF,或者基于光学的TOF技术,对每一个动作进行记录,教练们对结果分析,反复比较,以便提高运动员的成绩。随着MEMS技术的进一步发展,MEMS传感器的价格也会随着降低,这在大众健身房中也可以广泛应用。在滑雪方面,3D运动追踪中的压力传感器、加速度传感器、陀螺仪以及GPS可以让使用者获得极精确的观察能力,除了可提供滑雪板的移动数据外,还可以记录使用者的位置和距离。在冲浪方面也是如此,安装在冲浪板上的3D运动追踪,可以记录海浪高度、速度、冲浪时间、浆板距离、水温以及消耗的热量等信息。 基于柔性PI材料的MEMS太赫兹超表面器件在military project领域和生物科技上应用非常有前景。甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制

磁传感器和MEMS磁传感器有什么区别?甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制

MEMS四种刻蚀工艺的不同需求:

高深宽比:硅蚀刻工艺通常需要处理高深宽比的问题,如应用在回转仪(gyroscopes)及硬盘机的读取头等微机电组件即为此例。另外,此高深宽比的特性也是发展下一代晶圆级的高密度构造连接上的解决方案。考虑到有关高深宽比的主要问题,是等离子进出蚀刻反应区的状况:包括蚀刻剂进入蚀刻接口的困难程度(可借助离子击穿高分子蔽覆层实现),以及反应副产品受制于孔洞中无法脱离。在一般的等离子压力条件下,离子的准直性(loncollimation)运动本身就会将高深宽比限制在约50:1。另外,随着具线宽深度特征离子的大量转移,这些细微变化可能会改变蚀刻过程中的轮廓。一般说来,随着蚀刻深度加深,蚀刻剂成分会减少。导致过多的高分子聚合反应,和蚀刻出渐窄的线宽。针对上述问题,设备制造商已发展出随着蚀刻深度加深,在工艺条件下逐渐加强的硬件及工艺,这样即可补偿蚀刻剂在大量离子迁徙的变化所造成的影响。 甘肃MEMS微纳米加工之超透镜定制