海南氮化镓芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供太赫兹放大器系列芯片技术开发服务。研究院自主研发的太赫兹半导体固态器件及单片集成电路，频率覆盖范围包括140GHz、220GHz、300GHz、340GHz等。这些产品涵盖了驱放、功放、低噪放等，并且还可为客户提供全套的太赫兹芯片解决方案。这些太赫兹芯片可以应用于太赫兹安检、无损探测、太赫兹高速通信系统等多个领域，在实现安全检测和无损检测方面发挥重要作用。研究院将持续努力，不断创新，为客户提供更多高质量的产品和服务，为太赫兹领域的发展做出贡献。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司作为一家新型研发机构，热情欢迎上下游企业入驻园区。海南氮化镓芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司致力于研发创新的散热技术和热管理解决方案。高功率密度热源产品可根据客户需求设计出色的散热效能和优异的热管理能力。这些高功率密度热源产品不仅解决了微系统和微电子领域散热问题，也为相关行业的发展带来了新的契机和可能。微系统和微电子领域的各类散热技术开发和热管理开发将因此获得推动。同时，这些产品的使用还能够提升设备的性能和效能，为微系统和微电子行业的发展打开了更广阔的未来。研究院高功率密度热源产品不仅在解决设备散热问题方面具有重要意义，还通过持续创新和研发，推动了整个行业的发展。海南氮化镓芯片流片芯谷高频研究院的太赫兹放大器系列产品，是一项可提供太赫兹芯片解决方案的创新科技成果。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质集成技术开发服务，公司拥有完善的表面处理、键合、转印、粘片、减薄、CMP、腐蚀等工艺技术，具有丰富的材料、器件、电路异质异构集成经验，在集成技术服务方面，可为客户提供定制化集成方案设计和集成工艺开发，在集成芯片制造方面，为客户提供定制化集成器件和芯片制造，异质异构集成技术通过不同材料、器件、工艺和功能的有机融合，是后摩尔时代微电子持续发展的重要途径之一。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司作为一家新型研发机构，旨在推动高频器件产业的发展，研究院具有良好的孵化能力。研究院以其较强的技术实力和丰富的行业经验，为上下游企业提供支持和协助。通过技术研发和技术转移，研究院能够帮助企业实现技术创新和产业升级，从而实现更好的发展和壮大。无论是从产品设计与研发，还是从生产与制造，乃至于市场与营销，研究院都可以与企业保持紧密合作。研究院拥有先进的研发设备和仪器，拥有专业的技术人才，能够解决各种复杂的技术问题。同时，研究院还积极与高校和科研机构合作，进行技术交流与合作。通过产学研相结合的方式，共同探索高频器件产业技术的前沿，为企业提供更多的创新动力和发展空间。未来，研究院将继续致力于技术创新，为高频器件产业的持续发展注入新的活力和动力，助力企业实现跨越式发展，走向更加广阔的未来。芯谷高频研究院的热物性测试仪可有效解决无法实现大尺寸、微米级厚度、及其超高热导率等材料的热评估难题。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供大功率GaN微波/毫米波/太赫兹二极管技术开发服务，该系列大功率GaN微波毫米波太赫兹二极管器件产品具有耐功率、高速等优势，工作频率涵盖1GHz~300GHz，截止频率达600GHz；可用于接收端的大功率限幅，提高抗干扰能力；可用于无线输能或远距离无线充电，可大幅提高整流功率和效率，实现装置的小型化；用于太赫兹系统，可提高太赫兹固态源输出功率，实现太赫兹源小型化，为6G通信等未来应用奠定基础。南京中电芯谷高频器件研究院具备先进的半导体器件及电路的加工流片能力，具备独具创新的技术和研发能力。海南氮化镓芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台可提供全流程芯片制造工艺技术服务。海南氮化镓芯片流片

    南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备先进的CVD用固态微波功率源技术。CVD技术是一种关键的制备技术，它通过气相反应直接在衬底上生长薄膜，是许多重要材料的制备技术之一。而固态微波功率源则是CVD设备重要组成部分。研究院的固态微波功率源，其技术先进，性能优良，可以广泛应用于化学/物理/电子束气相沉积和磁控溅射等各领域。该技术的应用前景十分广阔。在催化反应、材料制备等领域，CVD已是一种通行的制备技术。该技术的优势不仅在于制备的薄膜质量高，而且操作简单，可实现大规模制备，制备出的薄膜可广泛应用于热电转换器、光学设备、导电薄膜和光伏电池等领域。研究院在CVD用固态微波功率源技术上的研究和应用，将极大地推动该技术的发展并扩大其应用范围。研究院的技术实力，丰富的经验以及创新精神，将为该行业的进一步发展奠定坚实的基础。 海南氮化镓芯片流片