电镀板面铜粒引起板面铜粒产生的因素较多，从沉铜，图形转移整个过程，电镀铜本身都有可能。笔者在某国营大厂就遇见过，沉铜造成的板面铜粒。沉铜工艺引起的板面铜粒可能会由任何一个沉铜处理步骤引起。碱性除油在水质硬度较高，钻孔粉尘较多(特别是双面板不经除胶渣)过滤不良时，不仅会引起板面粗糙，同时也造成孔内粗糙;但是一般只会造成孔内粗糙，板面轻微的点状污物微蚀也可以去除;微蚀主要有几种情况：所采用的微蚀剂双氧水或硫酸质量太差或过硫酸铵(钠)含杂质太高，一般建议至少应是CP级的，工业级除此之外还会引起其他的质量故障;镀液稳定长效，镀层色泽均匀，根据需求可调整沙感，适用于汽配、卫浴。坪地采购酸铜光亮剂口碑好
4）酸性光亮镀铜不能直接在钢铁基体上电镀，需要**铜或暗镍打底后才能再镀酸铜；否则，镀层结合力会有问题。（5）电镀层在结晶过程中，当有添加剂加入情况下，会呈现出与通常情况下不同的生长特点。通常情况下，镀层的结晶成长速度与电流密度大小成正比，随着时间的延长，高电流区的镀层会越来越厚，这样即使在平板形的基体上，四周边角的镀层也会比中间部位厚，对于高低不平的基体，这种镀层会扩大不平性，即所谓几何整平作用。（6）在酸性光亮镀铜中，像H、S、D和Cl一这些添加物在阴极的高电流区会起到阻挡镀层结晶生长的作用，使镀层在低电流区的沉积速度大于高电流区，以一种V形坑为例，在添加剂的作用下，坑内和坑底的镀层生长的速度会大于坑边和坑外的镀层，一定时间后这个坑会由于坑内镀层的生长而被填平，这就是正整平作用。添加剂除了有正整平作用外，还使结晶过程中晶核的产生速度大于其长大成长的速度，这会使镀层的结晶变得细小，从而达成对光全反射的细度，因此在酸性光亮镀铜中可以得到光亮整平的镀层。荷坳酸铜光亮剂合作厂家多用于塑料、模具、镍网电镀以及电铸处理。德源宝。
化学镀镍光亮剂配方及其使用方法：化学镀镍光亮剂Ce(SO4)2；Te(SO4)2；AgNO3；CdSO4中一种或二种之和1—2g/L；丁炔二醇；炔丙醇；乙氧基炔丙醇中任一种2.5—5g/L；全氟壬氧基苯磺酸钠或全氟辛烷基磺酸季胺盐50—100g/L；其余为去离子水或蒸馏水，使用时的添加量为每升化学镀镍液中加1—2ml。化学镀镍光亮剂硫酸镍20~30g/L；次亚磷酸钠23~32g/L；乙酸钠10~20g/L；苹果酸4~10g/L；乙酸6~13ml/L；乳酸6~15ml/L；硫酸铋3~10mg/L；白屈菜氨酸1~4mg/L；邻菲罗啉1~4mg/L；十二烷基磺酸钠1~6mg/L；硫酸铜0.5~2.5mg/L；PH值4.5~5.0。
填平能力： 酸铜添加剂的填平性能是选用时的首要条件之一，有经验的工程师或师傅喜欢打赫氏片以确定酸铜的性能；但酸铜填平度在手功砂纸打拋黄铜片的表面是更容易比较出来的。一般而言，无论进口或者国产的酸铜光亮剂，能够在手抛黄铜片上起到鱼纹状打气纹，即可初步判断出其有一定的填平能力。但这种条纹状的打气纹是否在高中低位都有，就是酸铜填平能力的另一层表现。如果不能在中低位有出色的填平，这种酸铜光亮剂的在做货时，对复杂工件的出光速度将是极有影响的。进口酸铜都能够提供较好的高中低位的较好填平度。广泛应用于品质好首饰，五金等行业。
1.市场价值1)针对目前国内市场上化学镍药水生产厂家、贸易商等。恶性价格竞争，而不是提高自身产品质量和新型产品研发上，造成市场化学镍质量不稳定，药水生产使用难控制，关健技术难以掌握，药水使用周期短，造成加工的产品质量不稳定等等的难题。2)化学镍市场和技术由国外公司长期技术垄断经营，国内企业自主研发及技术创新显的尤为重要。3)国内80%以上表面处理技术企业以及高校科研所都在长期从事化学镍项目的研究和开发，但是因为自身诸多缺陷未能取得技术性大的突破；因而没有将该项目价值较高的开发。可考虑B剂和开缸剂是否不足又或者过量呢？罗湖购买酸铜光亮剂品牌推荐
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酸铜填平的原理 含氮，长链高分子化含物（如酸铜A剂中的红，黑，紫，蓝染料等）都是填平剂的比较好选择，但如果没有氯离子和含硫化学物的情况下，再多的填平剂也是无任何填平效果的，因此，镀液中的氯离子需要定期分析，这是酸铜填平的**基础力量。而含硫化学物在德系的酸铜光亮剂中一般分布在B剂或开缸剂中。过多的含硫化合物，镀层容易发雾，特别是低电流密度区。而不足量的硫化物，会导致光亮度和填平度（特别是低位填平度）一齐下降。因此，当酸铜镀液的填平能力出问题的时候，不要一直盲目地加A剂，可考虑B剂和开缸剂是否不足又或者过量呢？消耗量的提升，多是以Mu代替B剂进行补加造成的。只要协调得好，市售的许多酸铜添加剂都有良好的整平性。坪地采购酸铜光亮剂口碑好