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坪地购买酸铜光亮剂配方

来源: 发布时间:2021年10月22日

阳极铜粉及一价铜的存在将造成镀层不亮。阳极铜粉通常是阳极电流密度太大、阳极含磷量不适而使阳极出现不正常溶解。一价铜离子有时是因为某些还原剂带入而产生。为了消除一价铜影响,可在每天班前用30%双氧水按0.25mL/L的量稀释后加入槽内;有时可根据阳极溶解的情况,加入适量的硫酸。在酸性硫酸铜溶液中,微量的氯离子(Cl-)会增加电荷传递反应的交换电流密度,加速在酸性镀铜溶液中铜的沉积和溶解反应,故有微量的Cl-存在下,铜电镀过程中可在一个很大的电流密度范围内进行。Cl-含量少时,镀层发花;含量多时,镀层光泽下降。酸铜光亮剂是德源宝的的生产产品,质量保障。坪地购买酸铜光亮剂配方

电学性质:由于镀层是很薄的一层金属,测定比电阻困难。Ni-P(6~7%)比电阻为52-68μΩ·cm,镀层只有28-34μΩ·cm,纯镍镀层的比电阻小,*为6.05μΩ·cm。镀层比电阻的大小与镀浴的组成、温度、pH值,尤其是磷含关系密切。另外热处理也明显影响着比电阻值的大小。磁学性质:化学镀Ni-P合金的磁性能决定于磷含量和热处理制度,也就是其结构属性-晶态或者非晶态。P≥8%(wt)的非晶态镀层是非磁性的,含5~6%P的镀层有很弱的铁磁性,只有P≤3%(wt)的镀层才具有铁磁性,但磁性仍比电镀镍小。钎焊性能:化学镀镍层拥有良好的钎焊性能,如在铝合金制品上镀3~5um镍磷镀层就可以改善钎焊性能,使铝散热品与硅晶体管连接良好。龙华专业生产酸铜光亮剂配方宽广的电流密度范围内拥有较高的填平能力。

质量的酸性镀铜光亮剂特点:1、出光块,填平度好,即使低电流密度区也可得到极高的填平度。2、电流密度范围均可得到镜面亮度。3、工作温度范围宽,18-40℃都可得到镜面亮度。4、镀层内应力低,延展性好,电阻率低。5、光亮剂对杂质容忍度高,易于控制。一般在使用一段长时间(约800-1000Ah/L)后,才需用活性碳粉处理。6、沉积速度快。在4.5A/dm2的电流密度下,每分钟可镀1微米的铜层。酸性光亮镀铜工艺的特点:(1)酸铜镀液电流效率高,沉积速度快。(2)酸铜光亮剂的光亮效果明显,整平性能好,可以获得镜面光泽镀层。(3)酸性光亮镀铜工作时需要阴极移动或压缩空气搅拌,并且镀液的温度比较好控制在30℃以内。

若用双氧水-活性炭处理过的镀液仍有发花或发雾,而经过除油处理的镀液不再出现发花或发雾,那么原镀液中有油,应进行除油处理。假使用双氧水-活性炭处理后的镀液和经过除油处理的镀液一样,都不出现发花或发雾,那么原镀液可能是有机杂质过多。只要用双氧水-活性炭处理镀液就可以了。镀液中聚二硫二丙烷磺酸钠是否过多,只要向试验液中添加其他光亮剂,并适当稀释试验液后进行试验,如果经这样处理后镀层不发花(或不发雾),而且光亮度较好,这时可能原镀液中聚二硫二丙烷磺酸钠太多,应调整光亮剂的比例。消耗量的提升,多是以Mu代替B剂进行补加造成的。

4)酸性光亮镀铜不能直接在钢铁基体上电镀,需要**铜或暗镍打底后才能再镀酸铜;否则,镀层结合力会有问题。(5)电镀层在结晶过程中,当有添加剂加入情况下,会呈现出与通常情况下不同的生长特点。通常情况下,镀层的结晶成长速度与电流密度大小成正比,随着时间的延长,高电流区的镀层会越来越厚,这样即使在平板形的基体上,四周边角的镀层也会比中间部位厚,对于高低不平的基体,这种镀层会扩大不平性,即所谓几何整平作用。(6)在酸性光亮镀铜中,像H、S、D和Cl一这些添加物在阴极的高电流区会起到阻挡镀层结晶生长的作用,使镀层在低电流区的沉积速度大于高电流区,以一种V形坑为例,在添加剂的作用下,坑内和坑底的镀层生长的速度会大于坑边和坑外的镀层,一定时间后这个坑会由于坑内镀层的生长而被填平,这就是正整平作用。添加剂除了有正整平作用外,还使结晶过程中晶核的产生速度大于其长大成长的速度,这会使镀层的结晶变得细小,从而达成对光全反射的细度,因此在酸性光亮镀铜中可以得到光亮整平的镀层。无论进口或者国产的酸铜光亮剂,能够在手抛黄铜片上起到鱼纹状打气纹。深圳酸铜光亮剂对人体怎么样

符合清洁生产要求,不含镉等有重金属,镀液使用寿命可达20周期,真正做到节能减排要求,且镀速减少。坪地购买酸铜光亮剂配方

造成酸性亮铜不良的原因较多。生产中可根据经验积累来分析检查产生故障的原因以确定解决的办法。一般来讲,导致酸性亮铜不亮的原因大体可以归纳如下几点。(1)电解质及溶液本身不纯所含有害杂质。在新配溶液时,所采用的工业硫酸铜通常含有一定量的铁和有机杂质,若不进行处理,则新配制的镀液导致镀层不亮。此时,可在尚未添加硫酸之前的硫酸铜电解液中(pH=4左右)加入l~2mL/L30%双氧水。利用三价铁氢氧化物容易沉淀的性质除去杂质。如果同时加入活性炭吸附,则可同时消除有机杂质的影响。坪地购买酸铜光亮剂配方

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