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半导体硅片回收价格多少？关于这样呀的问题，首先要确认是哪一种硅片，半导体硅片分为太阳能级和IC级，太阳能级硅片主要用于太阳能电池发电，也称光伏电站。由多晶硅熔炉、铸锭、切片、印刷、组件成发电组件，不同效率的电池片组装成不同效率的太阳能电池组件，电池片分多晶电池片和单晶电池片两种，印刷之前的电池片为裸片和扩散片，印刷成品后的电池片市面上常见的多为三栅、五栅，也有十二栅或其它的，但主流的还是三栅和五栅，银浆打线有实线和虚线，规格两种：125*125，156*，分为N型和P型两种，由原生多晶熔炉、拉棒、切片、研磨、印制电路等复杂工艺完成IC晶圆片的制作，后期经研磨、贴膜、切割、制作成IC小方片，也就是通俗讲的蓝膜片、白膜片，经采摘、封装测试后制作成IC芯片，存储芯片、闪存芯片、安防IC、遥控IC、指纹IC、触摸IC、摄像头IC、二极管、三极管等等等等。目前从事这方面制作的大型企业有：海力士、镁光、晟碟、东芝、英特尔、三星等大型封装测试工厂。不论是太阳能电池片或者IC芯片的制作过程中，都会有半导体硅材料的废品、不良品产生，譬如研磨过程中的打磨灰，切片过程中的崩边片、缺角片，印刷过程中的色差片，低效率片，薄片、划痕片、碎片等。

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    机械分离器包括沉降池、刮板沉降器、斜板沉降器、卧式离心机、立式离心机、管式离心机和旋流器中的一种或几种组合。碱洗所用的碱是液体或固体的金属氢氧化物，碱洗温度为常温或在50℃～120℃；酸洗所用的酸为无机酸或有机酸，或者有机酸与无机酸的混合物；所述酸是纯酸或酸溶液，温度为常温或在50℃～120℃；清洗时用洁净的清水，清洗温度为50～120℃，在清洗后再经机械分离得到碳化硅湿料。在烘干碳化硅湿料时所用的烘干方法包括：流化床干燥法、固定床干燥法；烘干温度40～150℃，烘干压力包括常压干燥和真空干燥；所述分级方法包括：筛分法和气流法分级。所述乙二醇包括乙二醇单甲醚、乙二醇二甲醚、乙二醇单、乙二醇双、乙二醇单丁醚中的一种或几种混合液；所述金属氢氧化物为氢氧化钠、氢氧化钾或碳酸钠；所述无机酸为硫酸、碳酸、硝酸、盐酸；所述有机酸为草酸、柠檬酸。 电池片前表面通过涂覆银浆作为正电极。吴江工厂硅片回收公司

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