超精密无氧铜真空卡盘

微泰，精湛的超精密加工技术，可达到微米级加工，充分考虑材料的特殊性加工超平整零件，平整度公差小于 3 um零件精密加工的关键在于确保高水平的精度和质量，并确保与既定尺寸的偏差小实现。 精密加工的半导体晶圆真空卡盘的平面度公差不超过 3 μm，并通过三维接触测量仪进行全数检查和系统质量的管材，为全球客户提供精密加工。 铝（AL5052、AL6061、AL7075）、不锈钢（SUS304、SUS316、SUS630）。 铜、钨、钛和蒙奈尔合金（MONEL）。 处理聚醚醚酮 (PEEK)、聚甲醛 (POM) 和聚酰亚胺 (PI) 等材料，需要精密加工。使用高难度材料，如无氧高导铜 (OFHC)制造半导体精密零件。超精密激光加工钻孔也可以在电子产品表面，也可用于手机扬声器、麦克风及其他玻璃上的钻孔。超精密无氧铜真空卡盘

微泰提供半导体精密元件精密制造和供应机械设备（包括半导体生产设备、生物电池、新能源电池、航空航天和罗机器人）所需的所有精密部件和模型。 根据客户的需求，提出改进功能的想法和设计，以及生产、质量控制和检测系统的高效集成基础设施、材料和部件。 通过与国内外设备制造商的合作，我们能够以高速度、高质量和有竞争力的优化成本提供客户满意的产品。尺寸：MCT 5 ~ 6.5 英寸。 CNC 6 ~ 10 英寸， 旋铣  材料:AL5052, AL6061, AL7075, SUS304, SUS316,SUS630, Copper, Tungsten, Titanium, Monel, POM,PEEK。半导体精密元件特性：保持严格的公差，因此零件的制造非常精确，并需要高加工能力，以便与指定公差的偏差小。 在整个加工过程中进行严格的质量控制，识别和纠正零件的规格和偏差，从而制造出高质量的精密零件。自动化超精密相机模组镜头切割器由于材料范围广且精度高，超精度加工技术普遍会应用在航太业、医疗器材、太阳能板零件等。

客户可以信赖的超精密 K 半导体材料和元件的加工品牌，微泰，将客户满意度放在中心半导体晶圆真空卡盘、半导体孔卡盘和半导体流量计。 专业制造半导体设备的精密组件，包括半导体液位传感器（ODM/OEM）。处理无氧铜等特殊材料半导体设备，以及精密零件制造。为模件装配提供解决方案。精密零件加工方面，对于特殊材料，精密加工急件、具有快速服务及应急响应能力。加工半导体晶圆真空卡盘，半导体精密卡盘，半导体精密流量计，半导体液位传感器，半导体精设备精密元件，JIG 制作。模组部件组装方面，根据客户要求组装模组型元件，生产半导体重要零部件，半导体精密流量计。研发中心开发新产品，研发新材料，新的加工技术。

精密磨削技术-电解在线砂轮修整技术 (ELID)对于精密零件的加工生产，精密磨削技术是必不可少的。在半导体/LCD、MLCC 和新能源电池等领域中，精密元件的使用率很高。常见的磨削技术的问题是，必须根据磨削后的弓形磨损量继续修整，这给保持同等质量带来了困难，因为表面状况会发生细微变化。 简而言之，ELID 磨削技术是一种在不断修整的同时进行抛光的技术。微泰采用了高精度的磨削技术，这些技术都以 ELID 技术和专有技术为基础，在这种技术中，我们生产的产品具有高精度、平坦度和高质量，这是很难生产的。真空板ELID磨削技术ELID 磨削技术（真空板）。利用电解在线砂轮修整技术 (ELID)，提高真空吸附板、刀片的表面粗糙度，减少研磨时的毛刺，减少手动调节提高作业自动化。400mm见方的真空板平面度可达5um。超精密激光切割技术已经被应用于精密电子、装饰、模具、手机数码、钣金和五金等行业。

飞秒激光利用相对较短的激光脉冲，热损伤很小，加工对象没有物性变形层，表面平整，可以实现超精密微孔加工。微泰 利用先进的飞秒激光高速螺旋钻削技术，用扫描仪，可以在任何位置自由调整聚焦点，还可以调节激光束的入射角，从而实现锥度、直锥度可以进行倒锥度等，所需的微孔的几何加工。本系统通过调整入射角和焦距，可以进行产业所需的各种形状的加工，可以进行5um到200um的精密孔加工。此外，还可以进行MAX10度角的倒锥孔和三维加工。激光加工完成后，用微孔检测系统，将载入相应的坐标信息。通过视觉扫描，确认每个微孔的大小和位置信息，并将其识别合格还是不合格。收集完成后，按下返工按钮即可进行再加工。本技术适用于，需要超精密加工的半导体制造设备零件、医疗领域设备及器材配件，各种传感器相关配件，适用于光学相关设备和零件的精密加工领域。特别是用于MLCC制造中的薄膜片叠层用真空板微孔加工。有微孔加工需求，超精密加工需求，请联系！不受加工数量的限制，对于小批量加工服务，激光超精密加工更加便宜。进口超精密陶瓷叠层电容

超精密加工是为了适应核能、大规模集成电路、激光和航天等技术的需要而发展起来的精度极高的一种加工技术。超精密无氧铜真空卡盘

微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS 材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在 3 微米以下；支持 6 英寸、 8 英寸和 12 英寸尺寸的晶圆加工；支持 2 层和 3 层的高级加工技术。 提供 4 层连接。尺寸： 6 英寸， 8 英寸.12 英寸。材料: AL6061, AL7075, SUS304, SUS316OFHC(Oxygen free High Conductivity Copper) 平面度公差：小于 3 um 连接: 2floor, 3floor, 4floor 表面处理: Anodizing, Electroless Nickel Plating,Gold Plating, Mirror Polishing。无氧铜 (OFHC) 半导体晶圆真空卡盘，无氧铜 (OFHC) 材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。 可加工 。 然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。超精密无氧铜真空卡盘