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化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE

来源: 发布时间:2024年05月23日

微泰,传输阀、转换阀、输送阀、转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它充当将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽。I型和L型转移阀是用于半导体PVD CVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它们的作用是将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽,并极大限度地减少由于闸板打开和关闭造成的真空压力变化,以维持腔室内的真空压力。I型转移阀由铝或不锈钢制成,用于传输晶圆小于450毫米的半导体系统和隔离工艺室。其特点是叶片在垂直方向上快速移动,以确保完美的腔室压力维持。而L型转移阀也由铝或不锈钢制造,其特点是设计紧凑,易于维护。L型转移阀的闸门在两个阶段从垂直到水平方向移动,以确保完美的腔室压力维护。这两种类型的转移阀都具有高耐用性和长寿命的优点,并且在闸门开启和关闭过程中极大限度地减少了振动,对温度变化也非常稳定,以确保较长的使用寿命。如果您需要了解更多关于微泰传输阀、转换阀、输送阀、转移阀的信息,请联系上海安宇泰环保科技有限公司。用真空闸阀时,应考虑与工艺气体的兼容性、工作压力范围、循环速度和维护要求等因素。化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE

闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,一、控制系统闸阀。控制系统闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,可以在高真空环境中实现精确的压力控制。如半导体等高真空工艺应用。控制系统闸阀是自动控制到用户指定的值,通过控制器和步进电机保持一致的真空压力。二、蝶阀。该蝶阀具有紧凑的设计和坚固的不锈钢结构,通过闸板旋转操作。蝶阀可以实现精确的压力控制和低真空环境。例如半导体和工业过程。蝶阀通过控制器和步进电机自动控制到用户指定的值,保持一致的真空压力。三、多定位闸阀。多定位闸阀是一种利用压缩空气或氮气控制闸阀位置的阀门。它在阀门的顶部有一个内置控制器,可以在本地和远程模式下操作。它还具有紧急关闭功能,以应对泵停止或CDA压缩干空气丢失的情况。其特点之一是能够远程检查阀门状态,并可用于具有不同法兰类型的各种工艺。多定位闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,适用于需要压力控制的所有加工领域。采用手动调节控制装置控制,用户可直接控制闸门的开启和关闭,以调节压力。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。溅射闸阀HV GATE VALVE控制系统闸阀。控制系统闸阀具有可隔离的闸阀,以滑动方式操作,可以在高真空环境中实现精确的压力控制。

化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE,闸阀

微泰,屏蔽闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• 溅射• Diamond growth by MW-PACVD• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)• Coating(涂层)• Etch• Diffusion•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。其特点是*阀体和阻断器之间的间隙小于1mm*防止流入的气体(粉末)进入阀体内部*使用维修配件工具包易于维护*应用:隔离泵,气流中的高水平工艺。屏蔽闸阀规格如下:驱动方式:手动或气动、法兰尺寸:2.5英寸~ 10英寸、法兰类型:ISO, JIS, ASA, CF、连接方式:焊接波纹管、阀门密封:氟橡胶O型圈/Kalrez O型环/EPDM、阀盖密封:Viton O型圈、响应时间:≤ 2 sec、操作压力范围:2.5˝ ~ 6˝ : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8˝ ~ 10˝ : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、开始时的压差:≤ 30 mbar、闸门的差动压力:2.5˝ ~ 6˝ : ≤ 1400 mbar / 8˝ ~ 10˝ ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、维护前可用次数:200,000次、阀体温度≤ 200 °、机构温度≤ 60 °C、烤炉温度≤ 150 °C、材料:阀体(不锈钢304)/驱动器(铝6061阳极氧化)、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩

微泰,控制系统闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。其特点是• 主体材质:不锈钢• 紧凑型设计• 带步进电机的集成压力控制器• 应用:需要压力控制和隔离的地方。控制系统闸阀规格如下:法兰尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:阀体(STS304)/机构STS304、STS420、馈通:旋转馈通、执行器:步进电机、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、压力范围:1×10-8 mbar to 1.4 bar、闸门上的压差≤1.4bar、维护前可用次数:100,000次、阀体温度≤ 150 °、控制器≤35°C、安装位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。微泰,高压闸阀应用于• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)•CVD(化学气相沉积)等设备上。

化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE,闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,三重防护闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。有-屏蔽闸阀:防止气体和粉末进入阀内的隔离阀,-三重防护闸阀:屏蔽1和2+保护环的3重隔离系统,还有步进电机闸阀和铝闸阀,屏蔽门阀:产品范围:2.5~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次•响应时间:0.2秒~3秒;三级预防闸阀,三重防护闸阀:产品范围:4~10英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次•包括屏蔽功能;步进电机闸阀:产品范围:2.5~10英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:25万次•包括屏蔽功能;步进电机闸阀;铝闸阀:产品范围:2.5~12英寸•高压气动•维护前可用次数:10万次•响应时间:0.2秒~3秒;有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。闸阀形体简单,结构长度短,制造工艺性好,适用范围广。超大型真空闸阀插板阀

正确安装、定期维护以及遵守制造商指南对于这些阀门的性能发挥和使用寿命至关重要。化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,有气动多位置闸阀(气动多定位闸阀、多定位插板阀、Pneumatic Multi Position)、气动(锁定)闸阀和手动(锁定)闸阀,蝶阀,Butterfly Valve,步进电机插板阀Stepper Motor Gate Valve,加热插板阀(加热闸阀Heating gate valve),铝闸阀(AL Gate Valve),三重防护闸阀,应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE