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做工业烤箱保养

来源: 发布时间:2024年04月25日

电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。过滤系统:2.1EBM电子式EC马达控制无尘室FFU。2.2镜面不锈钢结构体。2.3特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。2.4电路板控制模块,提供安全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。2.5无段式风量调速器可任意调整风量大小。2.6滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。2.7电力规格:单相220V50Hz0.95A,输出功率150W。工业烤箱找哪家比较安心?合肥真萍不错。做工业烤箱保养

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冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min四、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。精密工业烤箱报价合肥真萍与您分享工业烤箱对如今市场的影响。

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高温钟罩炉设备规格及结构炉膛结构:采用多晶莫来石材料砌筑而成

一、热工系统1.1额定温度:1550℃1.2限制温度:1600℃1.3加热元件:U型硅钼棒1.4加热功率:16kW1.5空炉保温功率≤8kW1.6温区个数:1个1.7控温点数:1点1.8热偶:B分度1.9程序**精度:2℃(大于600℃,升温速率≤3℃/min)二、气氛系统2.1炉膛气氛:2路空气,流量计量程为7~70L/min;每路流量可调节2.2排气系统:在炉膛顶部设置一个排气*囱,用于废气排放三、传动系统3.1传动方式:升降式3.2传动类型:电动推杆传动3.3容积:20L四、冷却系统4.1冷却结构:无4.2产品降温:随炉降温五、安全保护5.1升、降、停按钮:载料台的升、降、停控制5.2报警指示:超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警5.3设备安全升温速率≤5℃/min六、温度控制系统6.1温度测量:采用B分度热偶测量6.2控制方式:高性能移相调压+SCR晶闸管模块控制6.3限温处理:6.3.1当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警6.3.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时,报警6.4控制仪表:采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

HMDS真空烤箱主要技术指标:1.机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3.微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用优良材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。6HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。7.低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)8.温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)工业烤箱的运用领域有哪些?

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1、本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2、箱体采用先进设备制作、业内的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3、工作室材质为不锈钢、外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合较好实验室的颜色搭配。4、工作室内的搁架不可调节。5、工作室与外箱之间的保温材质是优良超细玻璃纤维保温棉,保温厚度:>70mm,隔温效果好,国内,高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。6、门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构,密封、耐高温性、抗老化性好。合肥真萍与您分享工业烤箱发挥的重要作用。厦门工业烤箱价格多少

工业烤箱的基本结构级应用!做工业烤箱保养

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;4、加热元件:石墨加热棒;5、冷却方式:气冷+循环风冷降温;6、控温稳定度:2℃,具有PID参数自整定功能;7、炉膛温度均匀度:5℃(恒温1500℃);8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;9、极限真空:10-3torr级;10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr11、升温功率:170kW;12、升温速率:15℃/min(空载);13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟做工业烤箱保养