真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。2.双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。6.真空程序分段控制,该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。网带炉应用再哪些地方?固化网带炉价格是多少
中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度±1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度±6℃(恒温800℃,1h)二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气,流量计量程为2~20L/min;每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量:5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量马鞍山小型网带炉专卖合肥真萍科技的优势有哪些呢?听听小编为您介绍。
超高真空烘箱被广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位,用于确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的降温速率。1.升温时间:①常压时:90min(常温~+260℃)②低气压0.0001pa时:180min(常温~+260℃)2.降温时间:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常温℃)3.降温方式:水冷降温4.试验箱承压方式:采用内承压方式5.压力范围:常压~0.0001Pa
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的。网带炉的发展前景如何呢?
本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。网带炉的运用领域有哪些?哪里有网带炉厂家直供
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下面为大家介绍一下高温钟罩炉的结构系统。一、炉体配置炉膛结构:采用多晶莫来石材料砌筑而成有效尺寸:φ300×320mm(D×H)设备重量:约1200Kg外观材料颜色:挂板采用高温喷塑,颜色为江淮蓝外形尺寸:W1300×H2200×D1510(mm),不含(囱、指示灯)二、热工系统1.额定温度:1550℃2.限制温度:1600℃3.加热元件:U型硅钼棒4.加热功率:16kW5.空炉保温功率≤8kW6.温区个数:1个7.控温点数:1点8.热偶:B分度9.程序**精度:±2℃(大于600℃,升温速率≤3℃/min)10.控温稳定度:±1℃(恒温平台)11.炉膛温度均匀度:±4℃(恒温1500℃,2h)固化网带炉价格是多少