重庆电镀工艺技术要求

第六章镀铬铬是一种微带天蓝色的银白色金属。电极电位虽位很负﹐但它有很强的钝化性能﹐大气中很快钝化﹐显示出具有贵金属的性质﹐所以铁零件镀铬层是阴极镀层。铬层在大气中很稳定﹐能长期保持其光泽﹐在碱﹑硝酸﹑硫化物﹑碳酸盐以及有机酸等腐蚀介质中非常稳定﹐但可溶于盐酸等氢卤酸和热的浓**中。铬层硬度高﹐耐磨性好﹐反光能力强﹐有较好的耐热性。在500OC以下光泽和硬度均无明显变化﹔温度大于500OC开始氧化变色﹔大于700OC才开始变软。由于镀铬层的**性能﹐***用作防护一装饰镀层体系的外表层和机能镀层。镀铬的特点﹕1﹐镀铬用含氧酸作主盐﹐铬和氧亲和力强﹐电析困难﹐导流效率低﹔2﹐铬为变价金属﹐又有含氧酸根﹐故阴极还原过程很复杂﹔3﹐镀铬虽然极化值很大﹐但极化度很小﹐故镀液的分散能力和覆盖能力还差﹐往往要采用辅**极和保护阴极﹔4﹐镀铬需用大电流密度﹐而电流效率很低﹐大量析出氢气﹐导致镀液奥姆电压降大﹐故镀铬的电压要比较高﹔5﹐镀铬不能用铬阳极﹐通常采用纯铅﹑铅锡合金﹑铅锑合金等不溶性阳极。浙江共感电镀有限公司是一家专业提供 电镀产品的公司。重庆电镀工艺技术要求

因为只要能将镀液装进去而不流失的装置，就可以做镀槽用，就是实际电镀工业生产中所用的镀槽也是五花八门，并没有统一的标准，这种状况对加强电镀管理是不利的。电镀企业，大体上只按容量来确定其大小，比如，500L、800L、I000L、2000L直至l0000L、20000L的镀槽都有。而其长宽和高度也由各厂家自己根据所生产的产品的尺寸和车间大小自己来确定，因此，即使是同一种容量的镀槽，其外形尺寸也不一定是相同的。至于做镀槽的材料也是各色各样的，有用玻璃钢的，有用硬PVC的，有用钢板内衬软PVC的，还有用砖混结构砌成然后衬软PVC，或在地上挖坑砌成的镀槽，甚至有用花岗岩凿成的镀槽，这中间当然有不少是不规范的做法，但却是我国电镀加工业中真实存在的状况。随着外国投资者的进入我国电镀市场，国外**的电镀设备和槽体也开始在我国电镀企业出现，同时，已经有了不少的电镀设备厂商，电镀槽的制作水平也越来越高。相信随着市场经济**的进一步深化，电镀设备制造厂商和行业协会、标准化**合作将镀槽容量系列化和标准化，对于电镀管理将是一个重要的贡献。同时，生产线的其他部件也采用标准件的形式进行制造，镀槽零件的停留时间和工艺参数也采用了柔性化控制系统。新疆工厂电镀配方浙江共感电镀有限公司致力于提供 电镀产品，欢迎您的来电！

微盲孔之孔径在3mi以下之浅小而多用于封装载板者，实填的问题还不算严重，某几种商业镀铜制程也还颇能让人满意。然而增二式手机板其BGA球脚垫内的二阶盲孔，不但口径大到6－8mil之间，且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超难密距(－Pitch)的拉近与挤压垫面空间，使得垫径又被紧迫缩小到只剩下12－14mil左右，逼得盲孔表面的环宽竟只剩下3mil而已。如此局限又险恶地形之锡膏承焊，安得不令八频捏大把冷汗？是故填孔镀铜几乎已经成为势在必行的工艺了。电镀铜预布焊料之填孔***一点的读者也许还记得，七年前Pentium(586)的时代，其CPU是采“卷带自动结合(TAB)的封装方式。此大型晶片封装完工之多脚组件，下游还要进行板面的贴焊组装。该QFP四边外伸贴焊之I/O共得320脚，单边80只平行伸脚彼此之密集栉比，逼得承接的长方焊垫也随之并肩鳞次，密密麻麻，方寸之间逼得相邻脚垫之跨距(Pitch)拥挤到不足10mil!垫宽(Width)*5mil，垫距(SPacing)更在5mil以下的艰困境界。如此之密距多垫及狭面之高难度锡膏印刷，有谁能够保证不出差错？即使锡膏印刷得以过关，其后续的放置(Placement)踩脚与高温熔焊(Reflow)之二种更难工序。

ReversibleReaction)假设将一支铜棒放入酸性蓝色的**铜溶液中，理论上固与液两相之间并非***静止之状态。其微观介面上，将会出现铜溶解与铜离子沉积两种反应同时进行。金属铜的溶解(例如CuCu+++Ze-)在电化学上称为游离或解离，是一种失去电子的广义氧化作用。铜离子的镀出(例如Cu+++2e－Cu0)则是一种接受电子的沉积反应，是一种还原作用。因为是有进有出有来有往，故学理上称之为可逆反应(ReversibleReaction)，但其间对外的净电流(NetCurrent)却保持在零的状态。若从动力学的观点，此种电极可逆反应进行所需的吉布森自由能(Gibbsfreeenergy)(G1与上G2)可从下示意图中得知。电镀铜电极电位(ElectrodePotential)因为单一电极的电极反应，无法求出其电位倒底是多少，故必须找出一种公定的参考标准，做彼此较量比对的依据，才能比较出各种金属电极在某一溶液中的电极电位。电化学领域是以“标准氢电极”(StandardHydrogenElectrode；SHE)做为参考。也就将下图中白金极(Pt)所发出的H2与氢离子之间的反应，当成人为的零电位：但先决条件是必须要将反应状况设定在氢气压为一个大气压(1atm)，氢离子活性(Activity)为1，反应温度为25℃之状态。浙江共感电镀有限公司为您提供 电镀产品，欢迎您的来电！

电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。电镀相关作用编辑利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。电镀层比热浸层均匀，一般都较薄，从几个微米到几十微米不等。通过电镀，可以在机械制品上获得装饰保护性和各种功能性的表面层，还可以修复磨损和加工失误的工件。此外，依各种电镀需求还有不同的作用。举例如下：1.镀铜：打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。（铜容易氧化，氧化后，铜绿不再导电，所以镀铜产品一定要做铜保护）2.镀镍：打底用或做外观，增进抗蚀能力及耐磨能力，（其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬）。（注意，许多电子产品，比如DIN头，N头，已经不再使用镍打底，主要是由于镍有磁性，会影响到电性能里面的无源互调）3.镀金：改善导电接触阻抗，增进信号传输。（金**稳定，也**贵。)4.镀钯镍：改善导电接触阻抗，增进信号传输，耐磨性高于金。5.镀锡铅：增进焊接能力，快被其他替物取代（因含铅现大部分改为镀亮锡及雾锡）。6.镀银：改善导电接触阻抗，增进信号传输。（银性能**好，容易氧化。浙江共感电镀有限公司致力于提供电镀产品，竭诚为您产品。贵州加工厂电镀性能

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电镀铜装饰酸性铜之配方以下即为高速镀铜槽液(阴极电极密度CCD平均为80－100ASF)的典型组成，其中酸与铜之重量比即1:1者:本配方若采用常规电流密度(20－40ASF)之挂镀者，其酸铜比应6:1以上。若又欲改采低速镀铜时(5-15ASF),其酸铜比还可拉高到10－15/l的地步。故基本配方的变化范围很大，完全依操作条件而定。至于**具影响力的有机助剂，则其商品*剂之性能又彼此不同，必须实地操作才能找到**佳状况。通常此种装饰铜的厚度都很薄()，主要目的是在减少刮伤与凹陷而铺平底村，使后续的装饰镍与薄铬层才有机会发挥更好的光泽，至于抗拉强度或延伸率等，对于装饰用途者通常不太讲究。电镀铜电路板挂镀铜之配方为了能使孔壁铜厚达到规范的要求(平均lmil)，以及耐得住热应力的考验起见(早先为288℃十秒钟漂锡一次而不断孔，目前由于封装载板的加入，又再严格到漂锡五次不可断孔)用于PCB的酸性铜已普遍改为酸铜比10/1的下列配方。此种典型槽液经历甚久目前仍在业界大量使用，且当通孔之纵横比增高时，其酸铜比也须随之增大，以保证孔铜厚度的及格与均匀。电镀铜吹气与过滤酸性铜之操作必须吹气，其功用系在协助槽液的搅拌以达浓度之均匀，减少亚铜离子(Cu+)的发生。重庆电镀工艺技术要求