通过三质粒瞬转体系生产病毒载体,会引入宿主细胞DNA残留(HCD)、蛋白残留(HCP)、工艺杂质(如antibiotics、核酸酶等外源物质)等污染,存在潜在的致瘤性和免疫原性等风险。药品监管机构一般允许生物制品中存在10ng/dose以下的残留DNA。此外,根据杂质来源、工艺以及产品类型不同,也会对HCD限度做不同要求。为了达到这个要求,一般通过核酸酶处理和色谱联用的方法。一般在细胞培养液裂解/收获、澄清收获及超滤浓缩等环节加入核酸酶处理,需要工艺摸索来确认处理方式。ArcticZymes致力于提供高质量产品,中盐核酸酶具有好的批间一致性、稳定可靠的质量。甘肃等渗条件中盐核酸酶70950
上海倍笃生物科技有限公司(简称“倍笃生物”),由中国科学院及生物医药产业界人士,于2018年1月共同创立。公司代理多个品牌的仪器、试剂及耗材,遵守相关法规要求,如cGMP规范、ISO13485质量管理体系认证等,致力于为诊断领域如分子诊断及病原微生物检测研发等,药物研发领域如细胞基因药物、核酸药物、抗体药物、干细胞及外泌体研究等客户提供合规、高质量物料及专业服务,以期与客户共同协作,加快研发及生产进度,为客户提供更多价值。甘肃等渗条件中盐核酸酶70950M-SAN HQ中盐核酸酶在细胞培养盐浓度下具有较高活性,缩短酶切时间、得到更短DNA片段;
M-SAN HQ中盐核酸酶在生理盐条件下的优势,让其成为生物生产工艺中去除核酸污染的更好选择。经过多年的市场宣传,M-SAN HQ中盐核酸酶品质已得到多个全球TOP CDMOs认可,纳入其工艺开发筛选平台。此外,目前全球有10+临床项目涉及的病毒载体生产用到M-SAN HQ中盐核酸酶。对于同一个项目,用M-SAN HQ替代Benzonase全能核酸酶,酶量减少、HCD去除效果更优、病毒载体产量也有一定程度的提高,酶相关成本降为原有的1/5以内,极大降低了病毒载体生产成本。
ArcticZymes Technologies推出了SAN HQ高盐核酸酶和M-SAN HQ中盐核酸酶,为生物工艺领域提供了革新性、更高效的方案来解决大规模生产中核酸残留问题。此前,受限于盐浓度和核酸酶活性的负调控效应,行业在核酸残留去除效果和酶成本之间寻找平衡,更多的是让工艺选择适应酶。此后,行业可以根据工艺具体需求而选择更合适的酶产品,既能达到理想的去除效果,又能轻松控制酶用量及综合成本,真正实现让酶适应工艺选择。SAN HQ和M-SAN HQ为行业提供更高效率的解决方案。US FDA指南要求:重组biologics终产品中,核酸杂质含量低于10ng/dose。
监管部门对HCD的残留量有明确的规定。美国FDA发布的指导原则中指出生物制品HCD残余限度为 100pg/剂,对于大剂量生物制品如单克隆抗体,根据其残留DNA来源及给药途径,残留量可放宽至 10ng/剂。细胞基因药物终产品的DNA残留有两种来源,分别是宿主细胞DNA(HCD)和转染用的质粒。质粒和HCD的存在形式不同,去除效率也差别很大。其中,质粒是裸露的DNA双链,带强负电荷,通过色谱纯化主要是离子交换能够很高效去除;HCD则是以核小体紧密折叠形成的染色质形式存在,几乎不以裸DNA形式存在,所以很难去除。宿主细胞DNA主要以染色质形态存在,其中组蛋白通过离子作用及疏水作用与DNA紧密结合;甘肃等渗条件中盐核酸酶70950
染色质的双螺旋结构影响DNA的检测与酶切处理,而中盐核酸酶降解染色质效率更高。甘肃等渗条件中盐核酸酶70950
ArcticZymes Technologies于2019年推出了M-SAN HQ中盐核酸酶,2021年推出对应的M-SAN HQ ELISA kit。该试剂盒原理是采用双抗夹心法定量检测各种生物制品的中间品、半成品和成品中M-SAN HQ中盐核酸酶的残留含量,特异性的anti-M-SAN作为捕获抗体偶联在孔板上,辣根过氧化酶HRP标记anti-M-SAN作为检测抗体,TMB是检测反应底物。该试剂盒特异识别M-SAN HQ中盐核酸酶,对其它核酸酶没有特异性结合。它的定量范围是0.12-7.5ng/ml;12*8strips的设计规格,使用灵活,更能降低使用成本。甘肃等渗条件中盐核酸酶70950
上海倍笃生物科技有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准,在上海市等地区的医药健康中始终保持良好的商业口碑,成绩让我们喜悦,但不会让我们止步,残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志,和谐温馨的工作环境,富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新,勇于进取的无限潜力,上海倍笃生物科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来,回首过去,我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜,相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围,我们更要明确自己的不足,做好迎接新挑战的准备,要不畏困难,激流勇进,以一个更崭新的精神面貌迎接大家,共同走向辉煌回来!