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山东晶圆解胶机设备厂家

来源: 发布时间:2026年01月03日

在太阳能电池片制造行业,鸿远辉 UVLED 解胶机为提高生产效率和产品质量提供了有力支持。以太阳能电池片激光切割后的解胶工序为例,传统的机械分离方式极易导致电池片出现隐裂,降低电池的转换效率。而鸿远辉解胶机配备了宽幅照射模组,比较大可覆盖 1.5m×1.5m 的大面积区域,配合多段式传送带,能够实现电池片的连续解胶操作,每小时处理量可达 1000 片以上,极大地提升了生产效率。同时,针对 PERC、TOPCon 等不同技术路线的电池片,设备可灵活调整紫外线波长,385nm 适用于 PERC 电池片,405nm 适用于 TOPCon 电池片,确保解胶效果与电池片材质完美匹配,有效保障了电池片的质量 。应用涵盖了半导体光学电子等多个对工艺精度要求极高的行业,推动这些行业高效、高质量发展的得力助手。山东晶圆解胶机设备厂家

解胶机

UV 解胶机在 PCB(印制电路板)精密制造中的应用,解决了传统解胶方式的效率瓶颈。在 PCB 内层板曝光工序中,需用 UV 胶将干膜临时固定在基板上,曝光完成后需去除干膜。传统的化学脱膜法需使用强碱溶液,不仅耗时(约 30 分钟),还会产生大量废水。UV 解胶机通过紫外线照射使干膜底层的 UV 胶失效,配合高压喷淋系统,可在 5 分钟内完成脱膜,且用水量*为传统工艺的 1/10。针对柔性 PCB 的薄型基板(厚度 0.1mm 以下),设备采用了真空吸附平台,避免照射过程中基板翘曲导致的解胶不均,确保线路图形的完整性。四川UV紫外线解胶机售后服务UV 胶水在紫外线照射下,会发生聚合反应从而固化成型。

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UV 解胶机的光源技术迭代,直接推动了其应用范围的拓展。早期设备多采用高压汞灯作为光源,虽能提供宽谱紫外线输出,但存在能耗高、发热量大、寿命短(约 1000 小时)等问题,且汞元素泄漏会造成环境污染。随着 LED 技术的成熟,新一代 UV 解胶机普遍采用深紫外 LED 光源,其能耗*为汞灯的 1/5,寿命可达 30000 小时以上,且不含重金属元素,符合 RoHS 环保标准。更重要的是,LED 光源可通过芯片级控制实现波长微调(365nm-405nm 连续可调),能匹配不同品牌 UV 胶的感光特性,例如对乐泰 352 胶需采用 385nm 波长,而对汉高 LOCTITE 480 胶则需 365nm 波长,大幅提升了解胶效率。

随着LEC技术日趋成熟和广泛应用,UVLED解胶机迎来了新的发展机遇。LEC技术的进步为UVLED提供了更稳定、高效的光源支持,加速了其替代传统设备的进程。UVLED解胶机将很快替代传统的电极式UV汞灯。传统UV汞灯存在诸多弊端,而UVLED解胶机在性能和环保方面的优势,使其成为必然的替代选择。与传统UV汞灯相比,UVLED不含汞。汞是一种有毒重金属,对环境和人体健康危害极大。UVLED的这一特性从源头上避免了汞污染的风险。传统UV汞灯在工作过程中会产生臭氧,而UVLED不会产生臭氧。臭氧具有强氧化性,对人体呼吸道和眼睛等有刺激作用,UVLED解胶机为操作人员提供了更健康的工作环境。相较于传统热风加热,UVLED解胶机采用非接触式冷光源解胶,能有效避免高温对精密元器件的热损伤。

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UVLED 解胶机的**组件包括 UVLED 光源模组、光学系统、工作台、控制系统和冷却系统。UVLED 光源模组是设备的**,负责提供特定波长和强度的紫外线;光学系统用于调节紫外线的照射范围和均匀性,确保胶水各区域均匀解胶;工作台用于放置待解胶的工件,可实现多轴精密移动,满足不同尺寸和形状工件的解胶需求;控制系统通过触摸屏或计算机软件设定照射时间、强度等参数,实现自动化解胶;冷却系统则用于散去 UVLED 光源工作时产生的热量,保证设备稳定运行。在半导体晶圆切割工艺中,UVLED 解胶机发挥着关键作用。晶圆切割前,通常需要用 UV 胶水将晶圆粘贴在蓝膜或载板上,以固定晶圆并保护其表面。切割完成后,需使用 UVLED 解胶机照射 UV 胶水,使其失去粘性,从而将切割后的芯片与蓝膜或载板分离。UVLED 解胶机的精细控制能确保胶水完全软化,同时避免紫外线对芯片造成损伤,保障芯片的电气性能不受影响,**提高了半导体封装的生产效率和产品良率。它支持 365-405nm 波长定制,适配不同 UV 胶感光特性,解胶效果精确。。河北晶圆解胶机供应商

此外,设备的外壳采用了耐高温、防腐蚀的材料制作,提高了设备的耐用性和安全性。山东晶圆解胶机设备厂家

在半导体制造、光电器件生产以及MEMS(微机电系统)等精密制造领域,材料表面胶层的去除是关键环节,直接影响产品的质量与性能。近日,深圳市鸿远辉科技有限公司生产的触控屏UVLED解胶机系列产品凭借***性能,成为行业焦点。该系列解胶机专为去除晶圆、电子元件等材料表面胶层而设计。在半导体制造中,晶圆表面胶层的精细去除关乎芯片的良品率,鸿远辉的解胶机凭借高精度控制,确保每一次解胶都精细无误,为芯片的高质量生产奠定基础。在光电器件生产领域,它能有效提升器件的光电转换效率,助力产品性能升级。对于MEMS制造,其微米级的解胶精度,满足了该领域对精密解胶的严苛要求。山东晶圆解胶机设备厂家