武汉高效PCB培训规范

关键信号布线（1）射频信号：优先在器件面走线并进行包地、打孔处理，线宽8Mil以上且满足阻抗要求，如下图所示。不相关的线不允许穿射频区域。SMA头部分与其它部分做隔离单点接地。（2）中频、低频信号：优先与器件走在同一面并进行包地处理，线宽≥8Mil，如下图所示。数字信号不要进入中频、低频信号布线区域。（3）时钟信号：时钟走线长度＞500Mil时必须内层布线，且距离板边＞200Mil，时钟频率≥100M时在换层处增加回流地过孔。（4）高速信号：5G以上的高速串行信号需同时在过孔处增加回流地过孔。·各元件布局应均匀、整齐、紧凑,尽量减小和缩短各元件之间的引线和连接。武汉高效PCB培训规范

工艺方面注意事项（1）质量较大、体积较大的SMD器件不要两面放置；（2）质量较大的元器件放在板的中心；（3）可调元器件的布局要方便调试（如跳线、可变电容、电位器等）；（4）电解电容、钽电容极性方向不超过2个；（5）SMD器件原点应在器件中心，布局过程中如发现异常，通知客户或封装工程师更新PCB封装。布局子流程为：模块布局→整体布局→层叠方案→规则设置→整板扇出。模块布局模块布局子流程：模块划分→主芯片放置并扇出→RLC电路放置→时钟电路放置。常见模块布局参考5典型电路设计指导。湖北设计PCB培训走线PCB培训还注重培养学员的实操能力。

一般开关电源模块应该靠近电源输入端，对于给芯片提供低电压的核电压的开关电源，应靠近芯片，避免低电压输出线过长而产生压降，影响供电性能，以开关电源为中心，围绕他布局。电源滤波的输入及输出端在布局时要远离，避免噪声从输入端耦合进入输出端，元器件应均匀、整齐、紧凑的排列在PCB上，减少器件间的要求。输入输出的主通路一定要明晰，留出铺铜打过孔的空间，滤波电容按照先打后小的原则分别靠近输出输入管脚放置，反馈电路靠近芯片管脚放置。

多层板（Multi-LayerBoards）为了增加可以布线的面积，多层板用上了更多单或双面的布线板。多层板使用数片双面板，并在每层板间放进一层绝缘层后黏牢（压合）。通常层数都是偶数，并且包含外侧的两层。大部分的主机板都是4到8层的结构，不过技术上可以做到近100层的PCB板。大型的超级计算机大多使用相当多层的主机板，不过因为这类计算机已经可以用许多普通计算机的集群代替，超多层板已经渐渐不被使用了。因为PCB中的各层都紧密的结合，一般不太容易看出实际数目，不过如果您仔细观察主机板，也许可以看出来。PCB培训课程通常从PCB基础知识讲解开始，介绍PCB的起源、发展历程以及相关的物理原理。

叠层方案，叠层方案子流程：设计参数确认→层叠评估→基本工艺、层叠和阻抗信息确认。设计参数确认（1）发《PCBLayout业务资料及要求》给客户填写。（2）确认客户填写信息完整、正确。板厚与客户要求一致,注意PCI或PCIE板厚1.6mm等特殊板卡板厚要求;板厚≤1.0mm时公差±0.1mm，板厚＞1.0mm是公差±10%。其他客户要求无法满足时，需和工艺、客户及时沟通确认，需满足加工工艺要求。层叠评估叠层评估子流程：评估走线层数→评估平面层数→层叠评估。（1）评估走线层数：以设计文件中布线密集的区域为主要参考，评估走线层数，一般为BGA封装的器件或者排数较多的接插件，以信号管脚为6排的1.0mm的BGA，放在top层，BGA内两孔间只能走一根信号线为例，少层数的评估可以参考以下几点：及次信号需换层布线的过孔可以延伸至BGA外（一般在BGA本体外扩5mm的禁布区范围内），此类过孔要摆成两孔间穿两根信号线的方式。次外层以内的两排可用一个内层出线。再依次内缩的第五，六排则需要两个内层出线。根据电源和地的分布情况，结合bottom层走线，多可以减少一个内层。结合以上5点，少可用2个内走线层完成出线。·机内可调元件要靠PCB 的边沿布局,以便于调节;机外可调元件、接插件和开关件要和外壳一起设计布局。深圳高速PCB培训布局

大格点的精度有利于器件的对齐和布局的美观。武汉高效PCB培训规范

存储模块介绍：存储器分类在我们的设计用到的存储器有SRAM、DRAM、EEPROM、Flash等，其中DDR系列用的是多的，其DDR-DDR4的详细参数如下：DDR采用TSSOP封装技术，而DDR2和DDR3内存均采用FBGA封装技术。TSSOP封装的外形尺寸较大，呈长方形，其优点是成本低、工艺要求不高，缺点是传导效果差，容易受干扰，散热不理想，而FBGA内存颗粒精致小巧，体积大约只有DDR内存颗粒的三分之一，有效地缩短信号传输距离，在抗干扰、散热等方面更有优势，而DDR4采用3DS(3-DimensionalStack)三维堆叠技术来增大单颗芯片容量，封装外形则与DDR2、DDR3差别不大。制造工艺不断提高，从DDR到DDR2再到DDR3内存，其制造工艺都在不断改善，更高工艺水平会使内存电气性能更好，成本更低；DDR内存颗粒大范围采用0.13微米制造工艺，而DDR2采用了0.09微米制造工艺，DDR3则采用了全新65nm制造工艺，而DDR4使用20nm以下的工艺来制造，从DDR～DDR4的具体参数如下表所示。武汉高效PCB培训规范