化学需氧量(COD)的检测方法,原理:在强酸性条件下,以重铬酸钾为氧化剂,硫酸银为催化剂,硫酸汞为氯离子掩蔽剂,加热消解水样,使水样中的有机物被氧化,剩余的重铬酸钾以试亚铁灵为指示剂,用硫酸亚铁铵溶液滴定,根据硫酸亚铁铵的消耗量计算出 COD 值。适用范围:适用于污染较严重的水和工业废水,可测定大于 50mg/L 的 COD 值,用 0.025mol/L 浓度的重铬酸钾溶液可测定 5-50mg/L 的 COD 值,但准确度较差。优点:氧化率高,再现性好,准确可靠,是国际社会普遍公认的经典标准方法。缺点:回流装置占空间大,水、电消耗大,试剂用量大,操作不便,难以大批量快速测定。超纯水的分配系统需有完善的水质监测点。北京教学用超纯水哪些特点
进水调节:调节预处理后的水的压力、流量和温度等参数,使其符合反渗透系统的运行要求。一般来说,进水压力需根据反渗透膜的规格和型号确定,通常在 1-3MPa 之间;进水温度宜控制在 20℃-30℃,以保证反渗透膜的分离效果和运行稳定性3.反渗透过滤:在高于原水渗透压的压力作用下,使原水通过反渗透膜,水分子透过膜形成纯水,而有机污染物、无机盐离子、胶体、微生物等杂质则被截留,随浓水排出系统。反渗透膜的选择至关重要,需根据进水水质、处理要求和膜的性能特点等因素综合确定,如聚酰胺复合膜具有较高的脱盐率和抗污染能力,适用于处理超纯水中的有机污染物45.冲洗与维护:反渗透系统运行一段时间后,膜表面会逐渐积累污染物,导致通量下降和水质变差。因此,需要定期对反渗透膜进行冲洗,以去除表面的污垢和杂质。一般采用低压大流量的水进行冲洗,冲洗时间根据污染程度而定,通常为 10-30 分钟。北京教学用超纯水哪些特点超纯水在智能家电制造中用于关键部件的清洗。
、离子交换 阳离子交换树脂 经过反渗透后的水,虽然大部分离子已经被去除,但仍含有少量的离子。此时,利用阳离子交换树脂可以进一步去除水中的阳离子,如钙、镁、钠等。阳离子交换树脂上带有酸性基团,能够与水中的阳离子进行交换反应。例如,磺酸型阳离子交换树脂(R - SO₃H)与水中的钙离子(Ca²⁺)发生交换反应,生成树脂钙盐(R - SO₃)₂Ca 和氢离子(H⁺)。 阴离子交换树脂 同时,使用阴离子交换树脂去除水中的阴离子,如氯离子、硫酸根离子等。阴离子交换树脂带有碱性基团,例如季铵型阴离子交换树脂(R - N (CH₃)₃OH)与水中的氯离子(Cl⁻)发生交换反应,生成树脂氯盐(R - N (CH₃)₃Cl)和氢氧根离子(OH⁻)。通过阴阳离子交换树脂的组合使用,可以将水中的离子浓度降低到极低的水平。
物理过滤过程:反渗透是一种物理过滤方式,无需添加化学试剂,不会引入新的化学物质到水中,避免了化学残留对水质的影响,这对于对水质纯净度要求极高的行业,如电子工业、制药行业等尤为重要,可有效保证产品质量和安全性178.高脱盐率与高纯净度:在去除有机污染物的同时,还可去除水中的溶解性固体、胶体、细菌、病毒等杂质,很好的提高水的纯度,满足对水质要求极高的应用场景,如电子行业中半导体器件制造对超纯水的需求1811.技术成熟,设备稳定:反渗透技术发展成熟,设备运行稳定可靠。只要控制好操作条件,如压力、温度、进水水质等,系统就能持续稳定地去除有机污染物,并可配备自动化监测和控制系统,实时监测运行参数,及时发现和处理问题,保障稳定供水,适合大规模连续生产1811.与蒸馏法对比:虽然反渗透过程需要一定压力驱动水通过半透膜,但相较于蒸馏法等其他高级净化技术,其能耗要低得多,可很好的降低生产成本和对环境的影响,在长期运行中更具经济优势18.超纯水在电力行业用于发电机组冷却与化学分析。
电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。超纯水的生产设备需定期维护校准,保证水质稳定。北京教学用超纯水哪些特点
纯水的温度变化对其电导率有一定的规律性影响。北京教学用超纯水哪些特点
超纯水是一种纯度极高的水,其电阻率高达 18.2 MΩ・cm 以上,几乎去除了水中所有的杂质,包括溶解性固体、有机物、微生物、胶体以及气体等。它的制备工艺极为复杂且精密,往往综合运用了反渗透、离子交换、超滤、紫外线杀菌、超滤膜过滤等多种先进技术手段。 在半导体制造领域,超纯水是芯片生产过程中的关键要素。芯片的微小电路结构对杂质极为敏感,哪怕是极其微量的离子或颗粒杂质都可能导致芯片短路、性能下降甚至报废。超纯水用于芯片的清洗、光刻、蚀刻等各个工序,确保了芯片制造的高精度和高质量。北京教学用超纯水哪些特点