黑龙江实验室超纯水

化学需氧量（COD）的检测方法，原理：在强酸性条件下，以重铬酸钾为氧化剂，硫酸银为催化剂，硫酸汞为氯离子掩蔽剂，加热消解水样，使水样中的有机物被氧化，剩余的重铬酸钾以试亚铁灵为指示剂，用硫酸亚铁铵溶液滴定，根据硫酸亚铁铵的消耗量计算出 COD 值。适用范围：适用于污染较严重的水和工业废水，可测定大于 50mg/L 的 COD 值，用 0.025mol/L 浓度的重铬酸钾溶液可测定 5-50mg/L 的 COD 值，但准确度较差。优点：氧化率高，再现性好，准确可靠，是国际社会普遍公认的经典标准方法。缺点：回流装置占空间大，水、电消耗大，试剂用量大，操作不便，难以大批量快速测定。超纯水在影视制作中用于道具制作与清洗。黑龙江实验室超纯水

总有机碳（TOC）的检测方法，紫外氧化 - 非色散红外探测法，原理：在样品进入紫外反应器之前去除无机碳，然后通过紫外光照射使有机物质氧化为二氧化碳，再后利用 NDIR 进行定量检测。 适用范围：适用于原水、工业用水等水体的 TOC 检测。 优点：结合了紫外光氧化和 NDIR 检测技术的优点，具有快速、准确、不接触检测等优点，可有效氧化大部分有机物。 缺点：对于颗粒状有机物、药物、蛋白质等高含量 TOC 的水样可能不适用，且紫外灯的使用寿命有限，需要定期更换。黑龙江实验室超纯水超纯水在包装材料印刷中用于油墨调配与清洗。

杂质含量：原水（如自来水、地表水或地下水）中的杂质种类和含量是影响超纯水质量的首要因素。如果原水中含有大量的溶解性固体，包括钙、镁、钠等阳离子和氯、硫酸根等阴离子，会增加后续处理的难度。例如，原水中高浓度的钙、镁离子可能导致在管道和设备中形成水垢，影响设备的运行效率和超纯水的质量。此外，原水中的有机物含量也很关键，像腐殖酸、富里酸等天然有机物，会在后续的处理过程中与消毒剂或其他化学药剂发生反应，生成副产物，影响超纯水的纯度。微生物污染：原水中的微生物，如细菌、病毒、藻类等，也是重要的影响因素。微生物的存在可能会在超纯水制备系统中繁殖，堵塞过滤器和膜组件，并且其代谢产物还会增加水中的有机物和营养物质含量。例如，细菌在水中生长繁殖会分泌胞外聚合物，这些物质可能会附着在反渗透膜或离子交换树脂上，降低它们的性能。

电子行业 在半导体制造领域，超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中，从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序，都需要超纯水。例如，在硅片清洗过程中，超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中，超纯水用于冲洗光刻胶，确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响，从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产，如电路板的制作，超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板，去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上，可能会引起电路的腐蚀或短路，影响电子产品的可靠性和使用寿命。超纯水在化工合成中，保障反应体系纯净无干扰。

配置碱性清洗液（如氢氧化钠溶液）并打入膜组件，按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟，循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液，排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件，冲洗时间约 30 - 45 分钟，确保清洗液被彻底冲洗干净，监测冲洗水的 pH 值和电导率，pH 值接近中性且电导率较低时冲洗完成。氧化剂清洗，当膜污染情况较为严重，经酸性和碱性清洗后仍未达到理想效果，尤其是怀疑有生物膜或顽固有机物污染时，进行氧化剂清洗。选择合适的氧化剂清洗剂（如过氧化氢或次氯酸钠溶液），将其打入膜组件进行循环清洗，循环时间 20 - 40 分钟，循环过程中要注意控制氧化剂浓度，避免对膜造成过度氧化损伤。清洗后排放氧化剂清洗液，用清水冲洗膜组件，冲洗时间不少于 40 分钟，同时监测冲洗水的相关指标，确保氧化剂被完全清洗干净。超纯水的生产需考虑不同季节原水水质变化。黑龙江实验室超纯水

超纯水在石油化工行业用于催化剂制备与分析。黑龙江实验室超纯水

储存和输送环境：储存和输送超纯水的环境条件也会产生影响。如果环境温度过高，可能会促进微生物在水中的生长繁殖；如果环境湿度较大，可能会导致储存容器和管道表面结露，引入外界的杂质。同时，周围环境中的化学污染物，如挥发性有机物、酸雾等，可能会通过容器或管道的微小缝隙进入超纯水，影响其质量。超纯水的电阻率是衡量其纯度的一个关键指标。在理想状态下，超纯水的电阻率应达到 18.2 MΩ・cm（25℃）。这一标准是基于超纯水几乎完全去除了水中的离子杂质，使得水中能够自由移动的离子极少，从而表现出极高的电阻率。在实际应用中，不同行业对于超纯水电阻率的要求也会有所差异。黑龙江实验室超纯水