在半导体制造的等离子体刻蚀工艺中，耐腐蚀性能非常关键。碳化硅ICP（电感耦合等离子体）载盘因其良好的耐腐蚀特性，成为这一领域的合适...

化工行业面临着强酸环境带来的设备腐蚀难题。传统材料在这种条件下容易失效，影响生产效率和安全。反应烧结碳化硅通过特别的高温工艺制备而...

反应烧结碳化硅因其低热膨胀系数而成为精密光学和半导体制造领域的理想材料。实际生产中，材料密度通常在3.05-3.15g/cm³范围...

碳化硅的高硬度特性在半导体行业中具有独特的应用价值，这种材料属于高硬度材料，这一特性使其在多个关键领域发挥着重要作用。在半导体制造...

高温氧化环境对材料提出了严峻挑战，传统金属材料在此类环境中往往难以长期使用。抗氧化反应烧结碳化硅应运而生，为这一难题提供了创新解决...