吉田半导体突破光刻胶共性难题，提升行业生产效率，通过优化材料配方与工艺，吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题，助力客户降本增效。 针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题，吉田半导体研发...

研发投入 ◦ 拥有自己实验室和研发团队，研发费用占比超15%，聚焦EUV光刻胶前驱体、低缺陷纳米压印胶等前沿领域，与中山大学、华南理工大学建立产学研合作。 ...

光刻胶（Photoresist）是一种对光敏感的高分子材料，主要用于光刻工艺中，通过光化学反应实现图案的转移，是半导体、集成电路（IC）、印刷电路板（PCB）、液晶显示（LCD）等制造领域的材料之...

吉田半导体厚板光刻胶 JT-3001：国产技术助力 PCB 行业升级 JT-3001 厚板光刻胶支持 500nm/min 深蚀刻，成为国产 PCB 电路板制造推荐材料。 吉田半导体自主研发...

行业地位与竞争格局 1. 国际对比 ◦ 技术定位：聚焦细分市场（如纳米压印、LCD），而国际巨头（如JSR、东京应化）主导半导体光刻胶（ArF、EUV）。 ...

广东吉田半导体材料有限公司以全球化视野布局市场，通过严格的质量管控与完善的服务体系赢得客户信赖。公司产品不仅通过 ISO9001 认证，更以进口原材料和精细化生产流程保障品质，例如锡膏产品采用无卤...

广东吉田半导体材料有限公司成立于 2023 年，总部位于东莞松山湖经济技术开发区，注册资本 2000 万元。作为高新企业和广东省专精特新企业，公司专注于半导体材料的研发、生产与销售，产品线覆盖芯片...

国际厂商策略调整 应用材料公司获曝光后处理，可将光刻胶工艺效率提升40%。杜邦因反垄断调查在中国市场面临压力，但其新一代乾膜式感光型介电质材料（CYCLOTENE DF6000 PID）仍...

绿色制造与循环经济 公司采用水性光刻胶技术，溶剂挥发量较传统产品降低60%，符合欧盟REACH法规和国内环保标准。同时，其光刻胶废液回收项目已投产，通过膜分离+精馏技术实现90%溶剂循环利...

正性光刻胶（如 YK-300） 应用场景：用于芯片的精细图案化，如集成电路（IC）、分立器件（二极管、三极管）的制造。 特点：高分辨率（可达亚微米级），适用于多层光刻工艺，确保芯片电...

吉田半导体水性感光胶 JT-1200：水油兼容，钢片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光胶解决钢片加工难题，提升汽车电子部件制造精度。 针对汽车电子钢片加工需求，吉田半导体研发的 J...

吉田半导体突破 ArF 光刻胶技术壁垒，国产替代再迎新进展 自主研发 ArF 光刻胶通过中芯国际验证，吉田半导体填补国内光刻胶空白。 吉田半导体成功研发出 AT-450 ArF 光刻胶，分...