HP与QS、P、MT-580、FESS等中间体合理搭配，组成电解铜箔添加剂，HP在镀液中的用量为0.001-0.004g/L，镀液...

N在酸性镀铜工艺中具有良好的整平光亮效果，和M一样可以在较宽的温度范围内镀出整平性，韧性、硬度良好的镀层；加入极少量便可获得优异的...

在硬铜电镀工艺中，N乙撑硫脲作为双剂型添加剂的组分，通过0.01-0.03g/L配比，可实现镀层HV硬度≥200，满足汽车模具、机...

N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，明显降低锂电池...

梦得为使用HP醇硫基丙烷磺酸钠的客户提供贴心服务。从产品咨询、试用，到生产过程中的技术指导和售后保障，每一个环节都用心对待。镀液分...