气体保护与杂质控制设备配备高纯度氩气循环系统，氧含量≤10ppm，避免粉末氧化。反应室采用真空抽气与气体置换技术，进一步降低杂质含量。例如，在钼粉球化过程中，氧含量从原料的0.3%降至0.02%，满足...

气体保护与杂质控制设备配备高纯度氩气循环系统，氧含量≤10ppm，避免粉末氧化。反应室采用真空抽气与气体置换技术，进一步降低杂质含量。例如，在钼粉球化过程中，氧含量从原料的0.3%降至0.02%，满足...

粉末表面改性与功能化通过调节等离子体气氛（如添加氮气、氢气），可在球化过程中实现粉末表面氮化、碳化或包覆处理。例如，在氧化铝粉末表面形成5nm厚的氮化铝层，提升其导热性能。12.多尺度粉末处理能力设备...

针对不同企业的生产规模与产品要求，该设备具备灵活的定制化能力。在设备规格上，可根据产能需求定制反应腔体积，从小型实验室用（500mL）到大型工业化用（100L）不等，满足研发与量产不同阶段的需求；在功...

等离子体碳基产品制备设备通常由气体供应系统、等离子体发生器、反应腔和冷却系统等部分组成。气体供应系统负责将所需的碳源气体（如甲烷、乙烯等）引入反应腔。等离子体发生器通过高频电源或直流电源将气体电离，形...

直流等离子体源在大气压条件下可以稳定放电,通过改变功率和气体流速等参数可以有效控制碳纳米材料的生长方向,得到具有特殊性质的碳纳米柱或石墨烯墙.电子回旋共振等离子源有较好的稳定性,处理时几乎不会引入杂质...

为了提高炭黑的纳米化效率和产品质量，该设备还采用了先进的表面改性技术。通过等离子体对炭黑表面进行处理，可以改善其分散性和相容性，提高其在不同介质中的稳定性和应用性能。表面改性技术可以通过调整等离子体处...

在等离子体碳基产品的制备过程中，多个关键参数会影响最终产品的性能。这些参数包括等离子体功率、气体种类、压力、温度和处理时间等。功率的大小直接影响等离子体的能量密度，从而影响材料的反应速率和产物的形态。...

等离子体反应系统的维护与保养：为了保持等离子体反应系统的性能稳定与延长使用寿命，需定期进行维护与保养工作。这包括清理反应腔内的残留物、检查并更换磨损的电极与密封件、校准参数传感器以及进行系统的整体性能...

炭黑纳米粉末等离子体制备设备是一种集成了先进等离子体技术与纳米材料制备工艺的高科技设备。其**在于利用等离子体的高温、高活性特性，将含碳原料快速转化为纳米级炭黑粉末。该设备不仅具备高效、环保、节能的优...

创新驱动发展，炭黑制备新动力创新是推动发展的不竭动力，也是我们的核心竞争力。我们的等离子体制备设备，不断引入新的技术与理念，为炭黑生产注入新的活力与动力。让您的生产更加高效、智能与环保。品质铸就辉煌，...

目前碳纳米管等离子体制备技术的创新，不仅推动了纳米材料科学的深入发展，也为纳米器件的微型化与集成化提供了有力支撑。该设备制备的碳纳米管，因其良好的导电性与机械柔韧性，成为构建微纳电子器件与柔性电子系统...