真空腔室设计：真空腔室是该设备的部件之一，采用不锈钢材质，内部经过镜面抛光处理，以减少气体分子散射，提高等离子体均匀性。腔室配备有高性能分子泵和机械泵组合，能在短时间内达到并维持高真空度（≤10^-6...

反应腔体是碳纳米管生长的主要场所，其内部设有精密的温控系统和气体流量控制系统，以确保生长过程中的温度、压力和气体组分等参数处于比较好状态。此外，反应腔体还配备了先进的样品预处理和后处理系统，以提高碳纳...

合肥物质科学研究院等离子体物理研究所与合肥工业大学合作，在高能聚变中子辐照下大功率晶闸管材料和电特性损伤研究方面取得新进展。同时，他们在EAST磁体电源故障诊断研究方面也取得了新进展，进一步提升了系统...

热等离子体矩在等离子体物理学和等离子体应用中具有广的重要性和应用价值。通过热等离子体矩的计算，我们可以了解等离子体中粒子的平均速度和速度分散情况，从而推断等离子体的温度和动能分布。这对于等离子体的诊断...

气相沉积技术还可以与其他薄膜制备技术相结合，形成复合制备工艺。例如，可以先通过气相沉积技术制备一层基础薄膜，然后利用溅射或离子束刻蚀等技术对其进行修饰或加工，从而制备出具有特定功能和性能的多层薄膜结构...

热等离子体矩在等离子体物理学中有着广泛的应用。在等离子体研究中，热等离子体矩可以用于描述等离子体中的温度、密度和速度等物理量。此外，热等离子体矩还可以用于研究等离子体中的电磁波和等离子体中的粒子加速器...

CVD 技术是一种支持薄膜生长的多功能快速方法，即使在复杂或有轮廓的表面上也能生成厚度均匀、孔隙率可控的纯涂层。此外，还可以在图案化基材上进行大面积和选择性 CVD。CVD 为自下而上合成二维 (2D...

射频电源是等离子体配套电源，它是由射频功率源，阻抗匹配器以及阻抗功率计组成,是80年末期在我国新兴的高科技领域。目前的射频电源广泛应用于射频溅射，PECVD化学气相沉积，反应离子刻蚀等设备中。 ...

等离子体粉末球化设备基于高温等离子体的物理化学特性，通过以下技术路径实现粉末颗粒的球形化：等离子体生成与维持：设备利用高频感应线圈或射频电源激发工作气体（如氩气、氢气混合气体），形成稳定的高温等离子体...

热等离子体矩在等离子体物理中有着广泛的应用。在等离子体聚变研究中，热等离子体矩可以用来描述等离子体的流动性质和稳定性。在聚变反应堆中，等离子体的流动和稳定性对反应堆的运行和能量输出有着重要的影响。因此...

等离子体射流的空间特性包括轴向和径向两个方向。等离子体射流的轴向结构包括射流的连续性、暗通道特性，以及多行为。而等离子体射流的径向结构中特性为等离子体的空心环结构。 等离子体射流的时间分辨特...

江苏先竞等离子体技术研究院有限公司一直致力于技术的研发和创新，拥有一支高素质的专业团队，并建立了完善的质量控制和售后服务体系。选择江苏先竞等离子体技术研究院有限公司的等离子体射流技术，就是选择了创新、...