物理吸收法主要是采用活性炭、沸石等比表面积大的活性介质通过范德化力,将气体分子吸附在多孔介质的表面,使恶臭物质由气相转移至固相,达到去除臭味的目的。该工艺具有成本低、操作简单、吸附效果好、不存在二次污...
热等离子体矩在许多领域都有广泛的应用。例如,在空间物理学中,热等离子体矩可以用来描述太阳风中带电粒子的运动行为,从而帮助人们更好地了解太阳风的形成和演化。在材料科学中,热等离子体矩可以用来描述高温等离...
气相沉积技术的沉积速率和薄膜质量受到多种因素的影响,如温度、压力、气氛等。通过精确控制这些参数,可以实现对薄膜性能的优化和调控。在气相沉积过程中,基体的表面状态对薄膜的附着力和生长方式具有重要影响。因...
等离子体电源是为产生和维持等离子体状态提供所需能量的设备。其工作原理通常包括以下几个主要方面:首先,电源将输入的市电(交流电)进行转换和调节。通过整流电路,将交流电转换为直流电。经过逆变电路,直流电被...
等离子体电源在结构设计方面同样具有优势。它采用紧凑的模块化设计,使得设备整体体积更小、更轻便,方便在生产线上的安装和布局。同时,模块化设计还使得维护和更换部件变得更加简单快捷,降低了维护成本和时间成本...
为了更好地发挥臭气处理设备的作用,需要对其进行科学的设计和选用。不同行业和不同场合的恶臭气体成分和处理要求各不相同,因此需要根据实际情况进行设备选型和工艺流程设计,以确保其能够满足治理需求。此外,设备...
气相沉积技术不仅是宏观薄膜制备的利器,也是纳米材料创新的重要途径。通过调控沉积条件,可以实现纳米颗粒、纳米线、纳米薄膜等纳米结构的可控生长。这些纳米材料具有独特的物理、化学性质,在能源、环境、生物医学...
大气压等离子体射流通常在惰性气体或者氮气的工作环境下,采用直流高压、高频交流和纳秒脉冲单种激励,或两种及三种电源的叠加激励下形成。由于放电延伸到电极外部,可以忽略电极结构对被处理物的影响,并且在下游空...
气相沉积技术的设备是实现高质量薄膜制备的重要保障。随着科技的不断进步,气相沉积设备也在不断更新换代。新型设备具有更高的精度、更好的稳定性和更智能的控制系统,为气相沉积技术的发展提供了有力支持。同时,设...
MOCVD技术具有高度可控性、高效率、低成本等优点,被广泛应用于LED、激光器、太阳能电池等领域。在LED领域中,MOCVD技术能够制备出高亮度、高效率的LED器件。通过控制材料的沉积率和掺杂浓度,可...
气相沉积技术中的等离子体增强气相沉积方法,通过引入等离子体源,显著提高了薄膜的沉积速率和质量。这种方法特别适用于制备高熔点、难熔材料的薄膜。气相沉积技术与其他薄膜制备技术的结合也为其带来了新的发展机遇...
选择性沉积与反应:某些气体组合可能会在特定材料上发生选择性的化学反应,从而实现选择性的沉积。这对于在复杂结构上沉积薄膜或在特定区域上形成薄膜非常重要。副产物控制:CVD过程中会产生副产物,如未反应的气...
近期,等离子体电源技术迎来重大革新,通过优化电源设计,显著提高了能量转换效率,为工业生产中的等离子体应用提供了更稳定、高效的能源支持。这项技术革新不仅降低了能耗,还增强了等离子体处理的稳定性和均匀性,...
等离子体电源在新能源领域的应用前景:随着新能源技术的快速发展,等离子体电源在新能源领域的应用前景广阔。它可与太阳能、风能等可再生能源相结合,实现能源的互补与高效利用。通过等离子体电源技术,我们可以将太...
技术优势: 首先,其处理效率非常高,能够在短时间内处理大量产生。其次,夜间技术能够在常温常压条件下运行,这样不仅节省了能源消耗,还降低了设备的复杂性与成本。另外,先进设备一般占用空间小,易于...
气相沉积技术中的原位监测技术对于控制薄膜质量和优化工艺参数至关重要。通过原位监测,可以实时观察沉积过程中薄膜的生长情况、结构和性能变化,从而及时调整工艺参数,确保薄膜质量达到比较好状态。这种技术的应用...
气相沉积技术是一种先进的材料制备工艺,通过在真空或特定气氛中,使气体原子或分子凝聚并沉积在基体表面,形成薄膜或涂层。该技术具有高度的可控性和均匀性,可制备出高质量、高性能的涂层材料,广泛应用于航空航天...
气相沉积技术中的原位监测技术对于控制薄膜质量和优化工艺参数至关重要。通过原位监测,可以实时观察沉积过程中薄膜的生长情况、结构和性能变化,从而及时调整工艺参数,确保薄膜质量达到比较好状态。这种技术的应用...
能源领域:等离子体电源在能源转换方面有着巨大的潜力。例如,在太阳能电池领域,利用等离子体对电池表面进行处理,可以提高其光电转换效率。此外,等离子体电源还可以用于燃料电池等新能源技术的研发和应用。科学研...
气相沉积技术在涂层制备领域也展现出巨大的优势。通过该技术制备的涂层材料具有优异的耐磨、耐腐蚀和耐高温性能,广泛应用于汽车、机械、航空航天等领域的关键部件保护。在新能源领域,气相沉积技术也发挥着重要作用...
等离子体电源的制造工艺是一个复杂且精细的过程,以下是等离子体电源制造的主要工艺环节:电解质制备电解质是等离子体电源的主要部分,其制备过程至关重要。电解质可以选择有机电解液或者无机固态电解质。有机电解液...
热等离子体矩在等离子体物理中有着广泛的应用。在等离子体聚变研究中,热等离子体矩可以用来描述等离子体的流动性质和稳定性。在聚变反应堆中,等离子体的流动和稳定性对反应堆的运行和能量输出有着重要的影响。因此...
等离子体射流具有许多优势。首先,等离子体射流具有高能量密度和高速度,可以提供较高的动能和冲击力。这使得等离子体射流在一些特殊应用中具有独特的优势,如航天器姿态控制和航空发动机推力增强。其次,等离子体射...
化学气相沉积 (CVD) 是一种在受控化学反应的气相阶段在基材表面外延沉积固体材料薄膜的方法。CVD 也称为薄膜沉积,用于电子、光电子、催化和能源应用,例如半导体、硅晶片制备和可印刷太阳能电池。 ...
等离子体炬等离子体处理危险废物技术适用范围广,通过等离子体气化、热解、熔融玻璃化,可将危险废物转化为无害的熔渣,在特定的外加条件下,还可实现危险废物资源化,实现“近零排放”。在经过等离子体熔融/热解/...
在科学研究领域,等离子体电源同样扮演着不可或缺的角色。它为实验室研究提供了稳定、可控的等离子体环境,使得科学家们能够更深入地研究等离子体的物理、化学性质及其在材料合成、生物医学等领域的应用。通过不断优...
气相沉积技术还可以与其他技术相结合,形成复合制备工艺。例如,与光刻技术结合,可以制备出具有复杂图案和结构的薄膜材料。在光学领域,气相沉积技术制备的光学薄膜具有优异的光学性能,如高透过率、低反射率等,广...
气相沉积(英语:Physicalvapordeposition,PVD)是一种工业制造上的工艺,属于镀膜技术的一种,是主要利用物理方式来加热或激发出材料过程来沉积薄膜的技术,即真空镀膜(蒸镀),多用在...
等离子体电源在工业加工中有广泛的应用。它可以用于材料表面的清洁、改性和涂层,提高材料的性能和质量。此外,等离子体电源还可以用于医疗设备,如等离子刀和等离子消融术,用于和其他疾病。在环境污染控制方面,等...
合肥物质科学研究院等离子体物理研究所与合肥工业大学合作,在高能聚变中子辐照下大功率晶闸管材料和电特性损伤研究方面取得新进展。同时,他们在EAST磁体电源故障诊断研究方面也取得了新进展,进一步提升了系统...