半导体平坦化材料的技术迭代与本土化进展随着集成电路制造节点持续微缩，化学机械平坦化材料面临纳米级精度与多材料适配的双重需求。在新型互连技术应用中，特定金属抛光材料需求呈现增长趋势，2024年全球市场规...

人体植入传感器生物相容性提升脑深部刺激电极的铂铱合金表面需兼具低阻抗与抗蛋白质吸附特性。美敦力公司创新电化学-机械协同抛光：在柠檬酸钠电解液中施加10kHz脉冲电流，同步用氧化铈磨料去除钝化层，使阻抗...

从腐蚀电化学角度看，晶间腐蚀可通过再活化率、极化曲线特征等参数进行评价。敏化材料在动电位扫描中表现出明显的再活化峰，其面积反映晶间腐蚀倾向大小。电化学阻抗谱也可用于区分晶界与晶内的界面反应特性。这些方...

设备检查-切割片方面：仔细检查切割片的外观，查看有无裂缝、缺口、磨损过度等情况，任何有损伤的切割片都不能使用，否则在切割过程中可能会出现切割片破裂飞溅，引发严重安全事故。同时，要确认切割片的规格与金相...

化学添加剂通过改变界面反应状态辅助机械抛光。pH调节剂控制溶液酸碱度，影响工件表面氧化层形成速率与溶解度。例如碱性环境促进硅片表面硅酸盐水解，酸性环境利于金属离子溶解。氧化剂（如H₂O₂）在金属抛光中...

研磨抛光液是不同于固结磨具，涂附磨具的另一类“磨具”，磨料在分散剂中均匀、游离分布。研磨抛光液可分为研磨液和抛光液。一般研磨液用于粗磨，抛光液用于精密磨削。抛光液通常用于研磨液的下道工序，行业中也...

柔性电子器件的曲面适配挑战可折叠屏聚酰亚胺基板需在弯曲半径1mm条件下保持表面无微裂纹，常规氧化铈抛光液因硬度过高导致基板疲劳失效。韩国LG化学研发有机-无机杂化磨料：以二氧化硅为骨架嫁接聚氨酯弹性体...

编辑1、阳极氧化膜为二层结构，内层是纯度较高的三氧化二铝，致密的薄的玻璃状膜，厚度约，硬度较高；外层是含水的三氧化二铝（Al2O3·H2O）膜。2、氧化膜与基体结合牢固，因为氧化膜是由基体...

量子计算基材的超精密表面量子比特载体（如砷化镓、磷化铟衬底）要求表面粗糙度低于0.1nm，传统化学机械抛光工艺面临量子阱结构损伤风险。德国弗劳恩霍夫研究所开发非接触式等离子体抛光技术，通过氟基活性离子...

抛光布的种类‌ 尼龙抛光布‌：属于化学纤维制品，适用于钢铁材料的表面粗抛光。‌‌ 真丝丝绒抛光布‌：厚度较好，耐磨度高，适用于钢铁、铝、铜、镁等软材料的抛光。‌‌ 绸布抛光布‌：...

可持续制造与表面处理产业的转型方向环保法规升级正重塑行业技术路线：国际化学品管理新规增加受限物质类别，国内将金属处理副产物纳入特殊管理目录，促使企业开发环境友好型替代方案。某企业的自维护型氧化铝处理材...

-冷却液处理：如果冷却液使用时间较长或者受到污染，要按照规定进行更换或者过滤处理，保证冷却液的冷却和润滑性能良好，同时要妥善处理废弃的冷却液，避免对环境造成污染，需遵循环保相关要求进行合理处置。-设备...