晶间腐蚀涌入,主要由于晶粒表面和内部间化学成分的差异以及晶界杂质或内应力的存在。晶间腐蚀破坏晶粒间的结合,降低金属的机械强度。而且腐蚀发生后金属和合金的表面仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力明显减弱,力学性能恶化, 不能经受敲击,所以是一种很危险的腐蚀。通常出现于黄铜、硬铝合金和一些不锈钢、镍基合金中。不锈钢焊缝的晶间腐蚀是化学工业的一个重大问题。不锈钢在腐蚀介质作用下,在晶粒之间产生的一种腐蚀现象称为晶间腐蚀。低倍加热腐蚀尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。辽宁金相电解腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀后面板上面前面一个为电源总开关;下排左起前面一个为电源输入插座;下排左起第二个:插座的开/关与工作电流输出同步;下排左起第三、四个和电源的总电源同步。注意事项:开机前将电压、电流调节电位器逆时针调到底;空栽或轻负载时输出电压由高处至低端时,动作不宜过快以免失控;面板输出接线柱不可当输入接线柱使用;对稳压电源进行维修时,必须将输入电压断开;输入电源线的保护接地端,必须可靠接地,以确保使用安全。辽宁金相电解腐蚀制样设备厂家电解抛光腐蚀,电信号低纹波,稳定性高。
电解抛光腐蚀仪器构成包括直流电源部分、腐蚀器和控温系统。直流电源输出端接腐蚀器的输入端,腐蚀器与控温系统相连接。直流电源恒定输出预设电压和恒定输出电流给腐蚀器,以及输出电路中设置电流过载保护器,用于腐蚀器在工作过程中保持恒定的电压和电流;直流电源中设有时间继电器,用于样品电解时间到达设定时间后,关闭电流、电压的输出,同时蜂鸣器提醒;腐蚀器包括电极,样品罩,搅拌器,控温系统由加热控制单元和冷却盘管组成。折叠编辑本段特点电解抛光腐蚀仪可实现恒定电压、恒定电流方式工作,可控制样试样的电解电流密度,能快速而有效地对金属材料进行电解抛光和腐蚀,具有重复性好,操作控制方便等特点。
晶间腐蚀试验方法:在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显差异加速显示晶间腐蚀。不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。产生晶间腐蚀的不锈钢,当受到应力作用时,即会沿晶界断裂、强度几乎完全消失,这是不锈钢的一种很危险的破坏形式。晶间腐蚀,不锈钢操作台,耐腐蚀,方便维护清理。
电解抛光腐蚀参考资料
试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
铜、铜一锌合金 |
水 100ml焦磷酸 580g |
1~2v |
10分 |
铜阴极 |
铜和铜基合金 |
蒸馏水:500ml,磷酸(85%)250ml乙醇(95%) 250ml |
18V |
1~5分 |
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青铜 (Sn≤9%) |
水 450ml磷酸(85%) 390ml |
1.5~12V |
1~5分 |
0.1A/ cm2 |
青铜 (Sn≤6%) |
水:330ml 硫酸 90ml磷酸(85%) 580ml |
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铝和铝一硅(<2% 合金 |
蒸馏水:140ml,酒精(95%)800ml高氯酸(60%) 60ml |
30~40v |
15~60秒 |
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铝一合金 |
甲醇(纯) 840ml甘油(丙三醇) 125ml |
50~100v |
5~60秒 |
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铝 |
甲醇(纯):950ml, 硝酸(1.40)15ml,高氯酸(60%)50ml |
30~60v |
15~60秒 |
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铝、银、镁 |
蒸馏水:200ml,磷酸(85%)400ml酒精(95%) 380ml |
25~30v |
4~6分 |
铝阴极 100~1100。F |
低倍组织热酸蚀腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。辽宁金相电解腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。辽宁金相电解腐蚀制样设备厂家