武汉金相磨抛机公司

金相磨抛机：在金相实验室，金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机的集污盘和罩采用ABS材料整体制作，是具有外形新颖美观的产品。本机是采用PLC控制的金相试样磨抛机，磨盘100-1000无级调速，触摸屏显示并控制磨盘转速，电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，具有磁性盘设计，全系列支持快速换盘系统，使用弹性佳，搭配自动研磨装置，能代替手工进行磨抛的各道工序，可定时，设定磨头转速，可提高试样的磨抛质量和制作效率，是比较理想的金相制样设备。本机可适应各种材料的试样制备。该机的抛盘直径较大。抛盘的转速操作，噪音低，操作方便，外形美观，使用安全，是金相试样设备。金相磨抛机（单盘/双盘）工作盘：200mm、230mm、250mm。武汉金相磨抛机公司

金相磨抛机：手工细磨的方法有手工磨光和机械磨光。手工细磨的目的是消除粗磨遗留下来的深而粗的磨痕，为抛光作准备。细磨本身包括多道操作，即在各号砂纸上从粗到细顺序进行。细磨操作方式有手工磨光和机械磨光两种。在磨光过程中如果用水或汽油等润滑冷却液则称之为“湿式磨光”，否则就称之为“干式磨光”。从磨光效率及质量而言，“湿式磨光”显然要比 “干式磨光”好。从总体趋势来看，“湿式”、“机械磨光”将逐步替代“干式”、“手工磨光”。细磨的磨削工具是砂纸。砂纸由纸基、粘结剂、磨料组合而成。温州单盘手动金相磨抛机制造厂商金相磨抛机（全自动）带自动锁紧功能通过编程实现连续制样。

金相磨抛机：将研磨好的试样用力持住，并轻轻靠近抛盘，先将试样按向磨抛盘的中心位置，边抛光边向外平移试样。在抛光过程中，要随时补充抛光剂以保持一定湿度太干干则使磨面产生变形层和暗斑，过湿会减弱抛光作用，适宜的湿度是试样磨面附着的湿膜在3~5秒内挥发完，抛光时间不宜过长，一般是在磨面的划痕消除，而不产生麻点；试样抛光好后，应关闭电源。注意停机时应先关闭给水阀后停机，避免水溢入电机内，损坏电机，影响设备的正常使用。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。金相磨抛机转动平稳、安全可靠、噪音低。

金相磨抛机：抛光目的是消除细磨留下的磨痕，获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等，常用的是机械抛光。（1）机械抛光是在抛光机上进行抛光，靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的，分为粗抛光和细抛光两种1）粗抛光粗抛光一般是在抛光盘上铺以细帆布，抛光液通常为Cr2O3、Al2O3等粒度为1-5μ的粉末制成水的悬浮液，一般一升水加入5-10克，手握样品在常用的抛光机上进行。边抛光边加抛光液，一般的钢铁材料粗抛光可获得光亮的表面。2）细抛光是在抛光盘上铺以丝绒，丝绸等，用更细的Al2O3、Fe2O3粉制成水的悬浮液，与粗抛光的方法相同。金相磨抛机无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。佛山全自动单盘金相磨抛机多少钱一台

金相磨抛机（全自动）磨头转速：30-150r/min。武汉金相磨抛机公司

金相磨抛机使用安全防范：在机器旋转部分旁进行工作时，必须注意不要使衣服或者头发被卷入到机器的旋转部分必须使用合理的安全工作服，操作员一定熟悉紧急按钮位置，紧急情况下可以快速停止设备；如果发现机器失灵或者听到异常噪声-立刻停止机器，拨打服务提供商技术支持电话寻求帮助；在任何维修之前，请务必确保机器电源处于断开状态，并且等待电容上的残余电位完全释放干净为止；使用者必须完全熟知机器的使用方法。任何与机器连接的设备、附件和使用的耗材必须按使用手册中描述的方法使用；使用者应当确保实际电压与机器背面标注的电压要求一致，机器必须接地，遵守当地规定。 武汉金相磨抛机公司