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杭州盐酸腐蚀品牌有哪些

来源: 发布时间:2023年12月12日

电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表

浸蚀剂名称及成分

使用方法

适用范围

铬酸水溶液:         三氧化铬10          100亳升

电解浸蚀,以试样为正极,不锈钢为负极,相距18~25亳米,电压6伏,浸蚀30~90

添铁素体晶界外,一切组织均能显示,渗碳体易浸蚀,奥氏体次之

10%草酸电解液:     草酸           10          100亳升

电解时间0.7~1分钟

电流密度20~30/厘米2  

电解时间20~40

电流密度10~20/厘米2

电解时间1.6~1.8分钟

电流密度10~20/厘米2

显示奥氏体不锈钢晶和碳化物。

显示4Cr14Ni14W4Mo钢退火材的奥氏体和碳化物

显示提造钢退火或猝火组织,GCr15的碳化物。


低倍组织热酸蚀腐蚀用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程,独特的PID温度控制计算方法。杭州盐酸腐蚀品牌有哪些

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低倍组织热酸蚀,样品要求:检验面距切割面尺寸:热锯切割时不小于20mm;冷锯切割时不小于10mm;火焰切割时不小于25mm检验面粗糙度:热酸腐蚀不大于1.6um;冷酸腐蚀不大于0.8um试样尺寸:厚度一般20mm~30mm;纵向试样的长度一般为边长或直径的1.5倍;钢板检验面的尺寸一般为长250mm,宽为板厚;测试内容:一般疏松、中心疏松、锭型偏析、斑点状偏析、白亮带、中心偏析、冒口偏析、皮下气泡、残余缩孔、翻皮、白点、轴心晶间裂缝、内部气泡、非金属夹杂物(目视可见)及夹渣、异金属夹杂。杭州盐酸腐蚀品牌有哪些低倍组织热酸蚀腐蚀,尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。

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晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备,用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况,从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀,晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力逐渐减弱,力学性能恶化。由此可见,晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。

晶间腐蚀试验方法,各标准对试验细节均有详细规定。

试验方法

试验标准

试验周期

备注

不锈钢晶间腐蚀A


ASTM A262-2010

4

草酸法

不锈钢晶间腐蚀B

7

硫酸-硫酸铁 120h

不锈钢晶间腐蚀C

13-15

硝酸法 5*48h

不锈钢晶间腐蚀D

4

硝酸-氢氟酸 2*2h

不锈钢晶间腐蚀E

4

硫酸-硫酸铜 16h

镍基合金晶间腐蚀A

GB/T 15260-1994

7

硫酸-硫酸铁 120h

镍基合金晶间腐蚀B

3(5)

-硫酸铜-硫酸 24h72h

镍基合金晶间腐蚀C

10-12

盐酸法 168h

镍基合金晶间腐蚀D

13-15

硝酸法 5*48h

晶间腐蚀,4工位单独控制工作,增加制样效率。

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电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。电解抛光腐蚀,7寸触摸屏控制操作。无锡试验设备腐蚀性价比高

电解抛光腐蚀,直流0~100V / 0~6A,电流/电压值可定制。杭州盐酸腐蚀品牌有哪些

电解抛光腐蚀缺点,特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料,如果夹杂物被电解液浸蚀,则夹杂物有部分或全部被抛掉,这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀,则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料,如果这两个相的电化学性相差很大,则电解抛光时会产生浮雕。杭州盐酸腐蚀品牌有哪些