金相磨抛机:一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉,接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱,其自由能也较高,所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹,见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体,各晶粒的取向不会一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一颗晶粒溶解的结果不一样,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就显示出亮度不一致的晶粒。金相磨抛机更重要的是尽可能减少表层损伤,达到理想的磨抛效果。十堰自动打磨金相磨抛机公司
金相磨抛机为气动磨抛机,采用8寸彩色触摸屏PLC控制;具备双通道自动磨料添加系统,PLC控制磨料的智能化喷洒添加;自动调节研磨压力以及研磨时间;自动存储当前磨抛方案。同时可磨制8个试样块,选配特殊夹具能对特殊规格尺寸的样块进行精密研磨抛光。 可实现对常规黑色金属、有色金属、各种合金、陶瓷、岩石、玻璃、电子器件以及一些新型材料类等各种材料的精密研磨抛光,能够满足各级实验室的快速、高效、精密制样要求。PLC智能控制系统:彩色触摸屏、PLC控制系统,菜单式选项,智能化操作界面。具备100种磨抛方案自动存储功能,实现对多种材料样件磨抛方案的快速选择。十堰自动打磨金相磨抛机公司金相磨抛机还可把前一道工序的磨痕除去。
金相磨抛机在金相制样中,如果初次研磨不得当,那么很容易使样品表面出现划痕。那我们又如何防止制样过程中出现划痕呢,划痕即是样品表面上的线性凹槽,是由研磨粒子造成的。应对措施:确定在粗磨后,试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的磨痕花样;必要时重新进行粗磨;每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座,以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰;如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕,请先增加25~50%的制样时间。
金相磨抛机:手工磨光主要使用干砂纸,机械磨光要求使用水砂纸。这两种砂纸的主要区别在纸基和粘结剂上。水砂纸自然要求纸基=粘结剂都能防水。它们的磨料基本相同,主要有人造刚玉、碳化硅及氧化铝。按照磨料颗粒粗细尺寸砂纸分为各种规格,分别编号。磨料尺寸一般用“粒度”单位。对用筛选法获得的磨粒来说,粒度号是用1英寸长度上有多少个孔眼的筛网来确定的。例如10号粒度是指1英寸长度上有10个孔眼的筛网;如果磨粒的粒度以它的实际尺寸来表示,就用“W”单位,这种磨粒也称为微粉。如28微米的微粉其粒度号为W28。金相磨抛机(全自动)通过编程实现连续制样,每个工序完成自动停机,方便更换抛光组织物。
在金相制样过程中会产生各式各样的问题。污染:来源于其他部分而不是样品本身的杂物,并在机械研磨或抛光过程沉积在样品表面,这种现象称之为污染。应对措施:这种试样重新轻抛即可去除,如果检查抛光态试样,用酒精淋后进行吹风时,用酒精棉花在试样面上轻轻擦洗即可。为了避免出现污染,各道制样工序后尤其是倒数那一道工序后要立即清洗并干燥样品。当怀疑某一种相或粒子可能不属于真实组织时,请一定要清洁或者更换抛光布,并且从精磨开始重新制样。金相磨抛机底盘转动平稳,噪音低,支持快速转换盘系统。十堰自动打磨金相磨抛机公司
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金相磨抛机:抛好光后的试样,若直接放在显微镜下观察,只能看到一片亮光,能观察某些非金属夹杂物、灰口铸铁中的石墨、粉末冶金制品中的孔隙等,无法辨别出各种组成物及其形态特征。为了把磨面的变形层除去,同时还要把各个不同的组成地区分开来,得到有关显微组织的信息,就要进行显微组织的显示工作。按金相组织显示方法的本质可以分为化学、物理二类。化学方法主要是浸蚀方法,包括化学浸蚀,电化学浸蚀及氧化法,是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。本课程实验使用的全部试样均采用化学浸蚀方法制作。金相试样表面的化学浸蚀可以是化学溶解作用,也可以是电化学溶解作用。这取决于试样材料的组成相的性质及它们的相对量。十堰自动打磨金相磨抛机公司