金相磨抛机:化学抛光和化学机械抛光手工化学抛光是依靠化学试剂对样品的选择性溶解作用将磨痕去除的一种方法:例如用1~2g草酸、2~3mL氢氟酸、40mL过氧化氢、50mL蒸馏水的化学抛光剂。对碳钢、一般低合金钢的退火、淬火组织进行化学抛光(擦拭法);效果较好。此法适用于没有机械抛光设备的单位。化学抛光一般总不是太理想的,若和机械抛光结合;利用化学抛光剂边腐蚀边机械抛光可以提高抛光效率。化学抛光和化学机械抛光手工化学抛光是依靠化学试剂对样品的选择性溶解作用将磨痕去除的一种方法:例如用1~2g草酸、2~3mL氢氟酸、40mL过氧化氢、50mL蒸馏水的化学抛光剂。对碳钢、一般低合金钢的退火、淬火组织进行化学抛光(擦拭法);效果较好。此法适用于没有机械抛光设备的单位。化学抛光一般总不是太理想的,若和机械抛光结合;利用化学抛光剂边腐蚀边机械抛光可以提高抛光效率。金相磨抛机可使制备好的试样应能观察到真实组织、无磨痕、麻点与水迹。扬州单盘手动金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机:抛好光后的试样,若直接放在显微镜下观察,只能看到一片亮光,能观察某些非金属夹杂物、灰口铸铁中的石墨、粉末冶金制品中的孔隙等,无法辨别出各种组成物及其形态特征。为了把磨面的变形层除去,同时还要把各个不同的组成地区分开来,得到有关显微组织的信息,就要进行显微组织的显示工作。按金相组织显示方法的本质可以分为化学、物理二类。化学方法主要是浸蚀方法,包括化学浸蚀,电化学浸蚀及氧化法,是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。本课程实验使用的全部试样均采用化学浸蚀方法制作。金相试样表面的化学浸蚀可以是化学溶解作用,也可以是电化学溶解作用。这取决于试样材料的组成相的性质及它们的相对量。昆山双盘手动金相磨抛机企业金相磨抛机(全自动)压力可通过触摸屏设定,精确力度控制。
金相磨抛机维护:为了确保磨抛机有更长的使用寿命,强烈建议您进行日常维护和清洁。用柔软的湿布和普通家用洗涤剂清洁漆层表面和控制面板。不要使用干布擦拭,表面会产生划痕。油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统。防粘盘每次使用完成后应取下晾干。定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物,不能使用坚硬物体,避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内,会损坏转动装置。
金相磨抛机装入所需要制备的样品,可装入1-6个(根据试样直径不同所夹持的数量会有变化,根据实际确定好夹持盘规格)。调整好冷却管角度及水流量,确保试样得到充分冷却,冷却水还会冲走磨盘上磨削的材料及磨料。检查一下参数是否合理,可参考如下建议: 当制备单个试样时,不要使用粗磨料进行粗磨。一般无需这么做,使用粗磨料可能导致试样表面不平整。如果由于某些原因需要使用粗磨料进行研磨,可以采纳如下建议以改善平整度。试样的高度应该在 8 – 35 mm 之间,且不能超过试样直径的 0.7倍。例如:直径 30 mm 试样的高度不应该超过 30 x 0.7 = 21 mm。尽可能使用细磨料。金相磨抛机通过不同的研磨抛光介质来实现用户的粗磨、精磨、粗抛、精抛光制样过程。
金相磨抛机所使用镶样树脂的耐磨性应该与试样的耐磨性一致。研磨盘和试样夹持盘的转速均设定为 150 r/min(当使用较低速度时,磨盘和试样夹持盘的速度会同时降低)。使用同向旋转。(磨盘和夹持盘都是逆时针旋转)。使用较小的力度。调整试样夹持盘的位置使得试样不会通过制备盘中心。按下启动键启动制备进程,左上边会显示制备过程总时间计时,参数显示区显示单个步骤时间计时。当单个步骤完成之后运行会自动暂停。等待更换新的磨料耗材或者选择另一个空闲的磨盘继续制样。当所有的步骤预设时间都结束后设备会自动停止制备进程。在整个操作过程中也可以按停止,状态会保持暂停状态,再次启动即可。 金相磨抛机大口径的排水管道,管道不容易堵塞。扬州双盘手动金相磨抛机经济实用
金相磨抛机(全自动)也可以通过手动操作参数制样,方便制样多样性。扬州单盘手动金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机技术参数:工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm,转速 100-1000r/min,三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义,旋转方向 顺时针或逆时针可调,电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE),水压 1-10bar/0.1-1Mp,进水管 Φ8mm长2m,排水管 内径Φ40,环境温度 5-40℃,尺寸 720x6855x320mm,重量 50Kg。装箱清单:金相磨抛机 1台,进水管(带接头) 1根,排水管 1根,电源线(国标插头) 1根,卡圈 2个,砂纸(320#、600#、800#、1000#各一张) 4张,植绒 1张,帆布 1张,操作手册 1套,合格证 1张 扬州单盘手动金相磨抛机厂家批发
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