常州单盘手动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机是将试样预磨和抛光操作结合为一体的经济机型，转盘通过带轮的转速比获得不同的转速，从而实现磨抛功能，是中小企业试样制作的理想设备。金相试样磨抛机经久耐用，维护保养也极为方便，使用时只需更换磨盘或抛盘，就能完成各种试样的粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，为扩大不同试样的制备要求，该的磨、抛盘直径均大于国内同类产品。可在工作面上有更多不同线速度的选择，可增加有效工作面20-30%，可提高试样的磨抛质量和试样的制备效率，金相试样磨抛机转动平稳，噪音低，是一种极为理想和功能完善的金相制样设备。金相磨抛机大口径的排水管道，管道不容易堵塞。常州单盘手动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机维护：为了确保磨抛机有更长的使用寿命，强烈建议您进行日常维护和清洁。用柔软的湿布和普通家用洗涤剂清洁漆层表面和控制面板。不要使用干布擦拭，表面会产生划痕。油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统。防粘盘每次使用完成后应取下晾干。定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物，不能使用坚硬物体，避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内，会损坏转动装置。 广州金相磨抛机品牌有哪些金相磨抛机表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。

金相磨抛机抛光时注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个光时间不易过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。金相磨抛机可除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。

金相磨抛机：将研磨好的试样用力持住，并轻轻靠近抛盘，先将试样按向磨抛盘的中心位置，边抛光边向外平移试样。在抛光过程中，要随时补充抛光剂以保持一定湿度太干干则使磨面产生变形层和暗斑，过湿会减弱抛光作用，适宜的湿度是试样磨面附着的湿膜在3~5秒内挥发完，抛光时间不宜过长，一般是在磨面的划痕消除，而不产生麻点；试样抛光好后，应关闭电源。注意停机时应先关闭给水阀后停机，避免水溢入电机内，损坏电机，影响设备的正常使用。金相磨抛机（全自动）磨抛制样时间：0-99min。常州单盘手动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机还可把前一道工序的磨痕除去。常州单盘手动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机技术参数：工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm，转速 100-1000r/min，三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义，旋转方向 顺时针或逆时针可调，电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水压 1-10bar/0.1-1Mp，进水管 Φ8mm长2m，排水管 内径Φ40，环境温度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。装箱清单：金相磨抛机 1台，进水管（带接头） 1根，排水管 1根，电源线（国标插头） 1根，卡圈 2个，砂纸（320#、600#、800#、1000#各一张） 4张，植绒 1张，帆布 1张，操作手册 1套，合格证 1张 常州单盘手动金相磨抛机制样设备厂家

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